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1. (WO2015115568) MATÉRIAU DE BASE SENSIBLE À LA TEMPÉRATURE, PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION ET PROCÉDÉ POUR SON ÉVALUATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/115568    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/052579
Date de publication : 06.08.2015 Date de dépôt international : 29.01.2015
CIB :
C12M 3/00 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP)
Inventeurs : MORITA, Masamichi; .
KUBOTA, Kouji; .
KOIZUMI, Yoshiko; .
YAMAGUCHI, Hiroki;
Mandataire : SAEGUSA & PARTNERS; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-014996 29.01.2014 JP
2014-085040 16.04.2014 JP
Titre (EN) TEMPERATURE-RESPONSIVE BASE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND METHOD FOR EVALUATING SAME
(FR) MATÉRIAU DE BASE SENSIBLE À LA TEMPÉRATURE, PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION ET PROCÉDÉ POUR SON ÉVALUATION
(JA) 温度応答性基材、その製造方法及びその評価方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: a temperature-responsive cell culture equipment, said temperature-responsive cell culture base material having such an excellent property that (1) an object (e.g., a cell) adhered onto the surface of the base material can be detached more easily and/or such an excellent property that (2) a sheet (e.g., a cell sheet) attached onto the surface of the base material can be removed with less damage to the sheet and/or such an excellent property that (3) the LCST of the base material is lower than those of the conventional ones and therefore the base material has excellent handling properties; and (4) a method for evaluating a temperature-responsive base material with respect to the property as mentioned above. A temperature-responsive base material having, on the surface thereof, a layer containing one or more polymers, said base material being characterized in that at least one polymer of the above-mentioned polymers has responsiveness to temperatures and at least one polymer of the above-mentioned polymers contains a constituent unit derived from a fluorinated monomer.
(FR)Le but de la présente invention concerne : un équipement de culture cellulaire sensible à la température, ledit matériau de base de culture cellulaire sensible à la température présentant une excellente propriété telle que (1) un objet (par exemple une cellule) qui adhère à la surface du matériau de base peut être détaché plus facilement et/ou une excellente propriété telle que (2) une feuille (par exemple une feuille cellulaire) attachée à la surface du matériau de base peut être enlevée avec moins de dommage à la feuille et/ou une excellente propriété telle que (3) la LCST du matériau de base est plus basse que celle des matériaux classiques et par conséquent le matériau de base présente d'excellentes propriétés de manipulation ; et (4) un procédé pour évaluer un matériau de base sensible à la température par rapport à la propriété telle que mentionnée ci-dessus. L'invention concerne un matériau de base sensible à la température présentant, sur sa surface, une couche contenant un ou plusieurs polymères, ledit matériau de base étant caractérisé en ce qu'au moins un polymère des polymères susmentionnés présente une sensibilité à des températures et au moins un polymère des polymères susmentionnés contient une unité constitutive dérivée d'un monomère fluoré.
(JA)温度応答性基材であって、(1)表面に付着した物体(例えば細胞)の剥離がより容易であること、及び/又は(2)表面に付着したシート(例えば細胞シート)を、より損傷が少ない状態で剥離できること及び/又は(3)LCSTが従来よりも低く取扱性に優れる、という優れた特性を備える温度応答性細胞培養器材を提供すること、並びに(4)上記のような特性の点で温度応答性基材を評価できる方法を提供すること。 少なくとも一種のポリマーを含有する層を表面に有する温度応答性基材であって、 前記ポリマーの少なくとも一種のポリマーが温度応答性を示すものであり、かつ 前記ポリマーの少なくとも一種のポリマーが含フッ素モノマーに基づく構成単位を含有するものであることを特徴とする、温度応答性基材。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)