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1. (WO2015115534) FILM TRANSPARENT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, PANNEAU TACTILE, FILM ANTI-RÉFLÉCHISSANT, PLAQUE POLARISANTE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/115534    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/052498
Date de publication : 06.08.2015 Date de dépôt international : 29.01.2015
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), B29C 41/12 (2006.01), B29C 55/04 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), G02B 1/11 (2015.01), G02F 1/1335 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01), B29L 7/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : HASHIMOTO Kiyokazu; (JP).
YAMAMOTO Kenichi; (JP).
FUJIMAKI Ayana; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-016799 31.01.2014 JP
Titre (EN) TRANSPARENT FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TOUCH PANEL, ANTI-REFLECTIVE FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY DEVICE
(FR) FILM TRANSPARENT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, PANNEAU TACTILE, FILM ANTI-RÉFLÉCHISSANT, PLAQUE POLARISANTE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 透明フィルム及びその製造方法、透明導電フィルム、タッチパネル、反射防止フィルム、偏光板および表示装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a transparent film with suppressed dimensional shrinkage even when subjected to high humidity over a long period of time, and providing a manufacturing method therefor, a transparent conductive film, a touch panel, an anti-reflective film, a polarizing plate, and a display device. According to the present invention, provided is a transparent film in which formulas (1) and (2) are satisfied, Rth representing birefringence in the thickness direction normalized to a thickness of 100 μm is 1-50 nm, and the in-plane distribution of Rth is 1-50%. Formula (1): 130≤T≤200, and formula (2): 0≤Y<0.4, where, in formulas (1) and (2), T is the glass transition temperature of the transparent film, Y is the equilibrium moisture content of the transparent film at 25°C, the glass transition temperature is in units of °C, and the equilibrium moisture content is in units of mass%.
(FR)La présente invention vise à fournir un film transparent ayant un rétrécissement dimensionnel supprimé, même lorsqu'il est soumis à une humidité élevée pendant une longue période de temps, et à fournir son procédé de fabrication, un film conducteur transparent, un panneau tactile, un film anti-réfléchissant, une plaque polarisante et un dispositif d'affichage. Selon la présente invention, l'invention concerne un film transparent dans lequel des formules (1) et (2) sont satisfaites, Rth représentant la biréfringence dans la direction d'épaisseur normalisée à une épaisseur de 100 μm est de 1-50 nm, et la distribution dans le plan de Rth est de 1-50 %. Formule (1) : 130 ≤ T ≤ 200, et formule (2) : 0 ≤ Y < 0,4, où, dans les formules (1) et (2), T est la température de transition vitreuse du film transparent, Y est la teneur en humidité d'équilibre du film transparent à 25 °C, la température de transition vitreuse est en unités de °C, et la teneur en humidité d'équilibre est en unités de % en masse.
(JA) 本発明の課題は、高湿下で長期経時させても寸法収縮が抑制された透明フィルム及びその製造方法、透明導電フィルム、タッチパネル、反射防止フィルム、偏光板および表示装置を提供することである。本発明によれば、下記式(1)および式(2)を満足し、厚さ100μmで規格化した厚み方向の複屈折を表すRthが1~50nmであり、上記Rthの面内分布が1~50%である透明フィルムが提供される;式(1):130≦T≦200:式(2):0≦Y<0.4:式(1)、式(2)中、Tは透明フィルムのガラス転移温度を表し、Yは透明フィルムの25℃での平衡含水率を表す;ガラス転移温度の単位は℃であり、平衡含水率の単位は質量%である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)