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1. (WO2015115287) PROCÉDÉ DE MESURE ET DISPOSITIF DE MESURE POUR UN OBJET EN COURS DE MESURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/115287    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051607
Date de publication : 06.08.2015 Date de dépôt international : 22.01.2015
CIB :
G01N 15/06 (2006.01), G01N 7/00 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : KAMBA, Seiji; (JP).
KONDO, Takashi; (JP).
SHIMIZU, Takashi; (JP)
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-014598 29.01.2014 JP
Titre (EN) MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE FOR OBJECT TO BE MEASURED
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE ET DISPOSITIF DE MESURE POUR UN OBJET EN COURS DE MESURE
(JA) 被測定物の測定方法および測定装置
Abrégé : front page image
(EN)A method for measuring the presence or amount of at least one type of object to be measured included in a sample, the method including: a capturing step for capturing the object to be measured in a void array structure having a pair of opposing main surfaces and a plurality of voids penetrating both of the main surfaces, by passing a sample fluid containing the sample through the void array structure; and a measurement step for measuring the object to be measured on the basis of the amount of change before and after the capturing step in the resistance of the void array structure to the passage of the fluid for measurement, and the voids are sized such that the object to be measured cannot pass through the voids or has difficulty passing through the voids.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure de la présence ou de la quantité d'au moins un type d'objet en cours de mesure inclus dans un échantillon. Le procédé comprend une étape de capture permettant de capturer l'objet en cours de mesure dans une structure d'agencement spatial possédant une paire de surfaces principales opposées et une pluralité d'espaces pénétrant à la fois dans les surfaces principales en faisant passer un fluide à échantillon contenant l'échantillon à travers la structure d'agencement spatial et une étape de mesure permettant de mesurer l'objet en cours de mesure sur la base de la quantité de variation, avant et après l'étape de capture, de la résistance de la structure d'agencement spatial au passage du fluide à mesurer, et les espaces étant dimensionnés de sorte que l'objet en cours de mesure ne puisse pas passer à travers les espaces ou présente des difficultés à le faire.
(JA) 検体中に含まれる少なくとも1種の被測定物の有無または量を測定する方法であって、前記検体を含む試料流体を、互いに対向する一対の主面を有し、両主面を貫通する複数の空隙部を有する空隙配置構造体に通過させることにより、前記被測定物を前記空隙配置構造体に捕捉する捕捉工程と、前記捕捉工程の前後における前記空隙配置構造体の測定用流体の通過に対する抵抗の変化量に基づいて、前記被測定物を測定する測定工程とを含み、前記空隙部の大きさは、前記被測定物が通過できないか、または通過し難い大きさである、測定方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)