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1. (WO2015115239) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/115239    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051310
Date de publication : 06.08.2015 Date de dépôt international : 20.01.2015
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : ANDO, Koji; (JP)
Mandataire : MATSUSAKA, Masahiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-013209 28.01.2014 JP
2014-013210 28.01.2014 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)This substrate processing device is provided with: a substrate support unit (141) that supports a substrate (9) from below; a substrate rotating mechanism that rotates the substrate support unit; and a top plate (123) that opposes the top surface (91) of the substrate. The top plate is selectively disposed at a concatenation position concatenated to the substrate support unit and a separated position separated upwards from the substrate support unit by means of an opposing unit support mechanism. The substrate support unit is provided with a chuck unit (4) having a plurality of claws (41) and a transmission mechanism (42), and when the top plate is positioned at the concatenation position, the abutment sections (43) of the transmission mechanism are pressed in by means of the dead weight of the top plate. The plurality of claws of the transmission mechanism press the edges of the substrate towards the center axis by means of the force acting on the abutment sections being transmitted to the plurality of claws. As a result, the substrate is held while being positioned with respect to the center of rotation.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de traitement de substrat, comprenant : une unité de support de substrat (141) qui supporte un substrat (9) par le bas ; un mécanisme de rotation de substrat qui entraîne en rotation l'unité de support de substrat ; et une plaque supérieure (123) opposée à la surface supérieure (91) du substrat. Ladite plaque supérieure est sélectivement disposée dans une position de juxtaposition, dans laquelle elle est juxtaposée à l'unité de support de substrat, et dans une position séparée, dans laquelle elle est séparée de l'unité de support de substrat vers le haut au moyen d'un mécanisme opposé de support d'unité. Ladite unité de support de substrat est dotée d'une unité de mandrin (4) comprenant une pluralité de griffes (41) et un mécanisme de transmission (42) et quand la plaque supérieure est disposée dans la position de juxtaposition, les sections de bute (43) du mécanisme de transmission sont poussées vers l'intérieur sous l'effet du poids mort de la plaque supérieure. Lesdites griffes du mécanisme de transmission poussent les bords du substrat vers l'axe central par transmission vers la pluralité de griffes de la force agissant sur la sections de butée. Ainsi, le substrat est retenu tout en étant positionné par rapport au centre de rotation.
(JA) 基板処理装置は、基板(9)を下側から支持する基板支持部(141)と、基板支持部を回転する基板回転機構と、基板の上面(91)に対向するトッププレート(123)とを備える。トッププレートは、対向部支持機構により基板支持部に対して上方に離間する離間位置と、基板支持部と連結する連結位置とに選択的に配置される。基板支持部には、複数の爪部(41)および伝達機構(42)を有するチャック部(4)が設けられ、トッププレートが連結位置に位置する際に、トッププレートの自重により伝達機構の各当接部(43)が押し込まれる。伝達機構は、当接部に作用する力を複数の爪部に伝達することにより、複数の爪部に基板のエッジを中心軸に向けて押させる。その結果、基板を回転中心に対して位置合わせしつつ保持することが実現される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)