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1. (WO2015115166) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE

Pub. No.:    WO/2015/115166    International Application No.:    PCT/JP2015/050648
Publication Date: Fri Aug 07 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Wed Jan 14 00:59:59 CET 2015
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: NAGAHARA, Seiji
永原 誠司
SHIRAISHI, Gousuke
白石 豪介
SHIMURA, Satoru
志村 悟
YOSHIHARA, Kousuke
吉原 孝介
KAWAKAMI, Shinichiro
川上 真一路
TOMONO, Masaru
友野 勝
Title: SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE
Abstract:
L'invention concerne un système de traitement de substrat comprenant : un poste de traitement qui est doté d'une pluralité d'appareils de traitement ; d'un poste d'interface qui transfère les substrats entre le système de traitement de substrat et l'appareil d'exposition, qui est à l'extérieur du système, et qui réalise une exposition de motif ; d'un appareil de rayonnement de lumière qui réalise une post-exposition en utilisant de la lumière UV par rapport à des films de réserve sur le substrat ayant été soumis à l'exposition de motif ; d'un appareil d'inspection qui inspecte les substrats ayant été soumis à la post-exposition puis au développement ; et d'une unité de commande. L'unité de commande est conçue pour corriger, sur la base de résultats d'inspection de substrat, une température de chauffage d'un traitement de chauffage des substrats dans le poste de traitement et/ou une quantité de focalisation ou une quantité d'exposition dans l'appareil d'exposition et/ou une quantité d'exposition dans l'appareil de rayonnement de lumière et/ou une longueur d'onde de la lumière UV à utiliser dans l'appareil de rayonnement de lumière.