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1. (WO2015114896) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PORTE-SUBSTRAT UTILISÉ DANS CELUI-CI

Pub. No.:    WO/2015/114896    International Application No.:    PCT/JP2014/078600
Publication Date: Fri Aug 07 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Wed Oct 29 00:59:59 CET 2014
IPC: H01L 21/205
C23C 16/458
H01L 21/683
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: MORISAKI Eisuke
森崎 英介
MACHIYAMA Wataru
町山 弥
KOBAYASHI Hirokatsu
小林 洋克
HARASHIMA Masayuki
原島 正幸
SANO Yukio
佐野 志生
Title: APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PORTE-SUBSTRAT UTILISÉ DANS CELUI-CI
Abstract:
L'invention concerne un appareil de formation de film qui est destiné à former des films à semi-conducteur mixte sur des substrats, et qui réalise une formation de film en fournissant un gaz de traitement à l'intérieur d'un contenant de traitement, tout en chauffant une pluralité de substrats (W) avec de la chaleur générée par la chauffe inductive d'un porte-substrat (34) dans un état dans lequel le porte-substrat (34) maintient les substrats (W) dans le contenant de traitement. Le porte-substrat (34) comprend une pluralité de section évidées (37) permettant de maintenir et d'aligner les substrats (W), lesdites sections évidées étant alignées dans la direction circonférentielle, et des sections évidées de raccordement (38) destinées à raccorder les sections évidées sont formées entre les sections évidées (37) adjacentes les unes aux autres.