WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015112986) DÉPÔT D'ÉLECTROLYTE À L'ÉTAT SOLIDE SUR DES COUCHES D'ÉLECTRODE DANS DES DISPOSITIFS ÉLECTROCHIMIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112986    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/012928
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 26.01.2015
CIB :
H01L 21/203 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : SUN, Lizhong; (US).
KWAK, Byung, Sung, Leo; (US).
GORDON, Joseph, G., IIi; (US)
Mandataire : DANIELSON, Mark, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/043,920 29.08.2014 US
61/931,299 24.01.2014 US
Titre (EN) DEPOSITION OF SOLID STATE ELECTROLYTE ON ELECTRODE LAYERS IN ELECTROCHEMICAL DEVICES
(FR) DÉPÔT D'ÉLECTROLYTE À L'ÉTAT SOLIDE SUR DES COUCHES D'ÉLECTRODE DANS DES DISPOSITIFS ÉLECTROCHIMIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus are described for improving the fabrication of thin film electrochemical devices such as thin film batteries and electrochromic devices, with respect to deposition of LiPON, or other lithium ion conducting electrolyte, thin films on electrodes such as Li metal, LiCoO2, WO3, NiO, etc. A method of fabricating an electrochemical device in a deposition system may comprise: configuring an electrically conductive layer substantially peripherally to a portion of the surface of an electrode layer of the electrochemical device; electrically connecting the electrically conductive layer to an electrically conductive, but electrically floating, surface; and depositing a lithium ion conducting solid state electrolyte layer on the portion of the surface of the electrode layer of the electrochemical device within the deposition chamber, wherein the depositing comprises forming a plasma within the deposition chamber; wherein during the depositing, the electrically conductive, but electrically floating, surface is within the deposition chamber.
(FR)L'invention concerne des procédés et des appareils pour améliorer la fabrication de dispositifs électrochimiques à film mince tels que des batteries à film mince et des dispositifs électrochromiques, pour ce qui concerne le dépôt de films minces en LiPON ou un autre électrolyte conduisant les ions de lithium sur des électrodes telles que le métal Li, le LiCoO2, le WO3, le NiO, etc. Un procédé de fabrication d'un dispositif électrochimique dans un système de dépôt peut comprendre : configuration d'une couche électriquement conductrice de manière sensiblement périphérique à une portion de la surface d'une couche d'électrode du dispositif électrochimique ; raccordement électrique de la couche électriquement conductrice à une surface électriquement conductrice, mais électriquement flottante ; et dépôt d'une couche d'électrolyte à l'état solide conduisant les ions de lithium sur la portion de la surface de la couche d'électrode du dispositif électrochimique à l'intérieur de la chambre de dépôt. L'opération de dépôt comprend la formation d'un plasma à l'intérieur de la chambre de dépôt et, pendant le dépôt, la surface électriquement conductrice, mais électriquement flottante se trouve à l'intérieur de la chambre de dépôt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)