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1. (WO2015112444) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES PERMETTANT DE MESURER DES STRUCTURES PÉRIODIQUES PAR SCATTÉROMÉTRIE RÉFLECTOMÉTRIQUE À RAYONS X MULTI-ANGLES (XRS)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112444    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/011753
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 16.01.2015
CIB :
G01B 15/00 (2006.01), G01N 23/223 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : REVERA, INCORPORATED [US/US]; 3090 Oakmead Village Drive Santa Clara, California 95051 (US)
Inventeurs : POIS, Heath A.; (US).
REED, David A.; (US).
SCHUELER, Bruno W.; (US).
SMEDT, Rodney; (US).
FANTON, Jeffrey T.; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael A.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/161,942 23.01.2014 US
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR MEASURING PERIODIC STRUCTURES USING MULTI-ANGLE X-RAY REFLECTANCE SCATTEROMETRY (XRS)
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES PERMETTANT DE MESURER DES STRUCTURES PÉRIODIQUES PAR SCATTÉROMÉTRIE RÉFLECTOMÉTRIQUE À RAYONS X MULTI-ANGLES (XRS)
Abrégé : front page image
(EN)Methods and systems for measuring periodic structures using multi-angle X-ray reflectance scatterometry (XRS) are disclosed. For example, a method of measuring a sample by X-ray reflectance scatterometry involves impinging an incident X-ray beam on a sample having a periodic structure to generate a scattered X-ray beam, the incident X-ray beam simultaneously providing a plurality of incident angles and a plurality of azimuthal angles. The method also involves collecting at least a portion of the scattered X-ray beam.
(FR)L'invention concerne des procédés et des systèmes permettant de mesurer des structures périodiques par scattérométrie réflectométrique à rayons X multi-angles (XRS). Par exemple, un procédé de mesure d'un échantillon par scattérométrie réflectométrique à rayons X consiste à précipiter un faisceau de rayons X incidents sur un échantillon ayant une structure périodique pour générer un faisceau de rayons X diffusés, le faisceau de rayons X incidents fournissant simultanément une pluralité d'angles incidents et une pluralité d'angles azimutaux. Le procédé concerne aussi la collecte d'au moins une partie du faisceau de rayons X diffusés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)