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1. (WO2015112401) COMPOSITION RÉDUISANT LE FROTTEMENT TOLÉRANTE AU SEL POUR LE TRAITEMENT D'UNE FORMATION SOUTERRAINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112401    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/011423
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 14.01.2015
CIB :
C09K 8/12 (2006.01), C09K 8/035 (2006.01)
Déposants : HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC. [US/US]; 10200 Bellaire Blvd Houston, Texas 77072 (US)
Inventeurs : REDDY, Baireddy Raghava; (US).
LIANG, Feng; (US).
YE, Xiangnan; (US)
Mandataire : MADDEN, Robert B.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/161,490 22.01.2014 US
Titre (EN) SALT-TOLERANT FRICTION-REDUCING COMPOSITION FOR TREATMENT OF A SUBTERRANEAN FORMATION
(FR) COMPOSITION RÉDUISANT LE FROTTEMENT TOLÉRANTE AU SEL POUR LE TRAITEMENT D'UNE FORMATION SOUTERRAINE
Abrégé : front page image
(EN)Various embodiments disclosed related to a composition for treating a subterranean formation, and methods and systems including the same. In various embodiments, the present invention provides a method of treating a subterranean formation that can include obtaining or providing an aqueous composition including a friction-reducing water-soluble polymer including about Z1 mol% of an ethylene repeating unit including a -C(O)NHR1 group and including about N1 mol% of an ethylene repeating unit comprising a -C(O)R2 group. At each occurrence R1 can independently be a substituted or unsubstituted C5-C50 hydrocarbyl. At each occurrence R2 can independently be selected from the group consisting of -NH2 and -OR3, wherein at each occurrence R3 is independently selected from the group consisting of -R1, -H, and a counterion. The repeating units can be in block, alternate, or random configuration. The variable Z1 can be about 0.001% to about 50%, N1 can be about 50% to about 99.999%, and Z1 + N1 can be about 100%. The method also includes placing the composition in a subterranean formation downhole.
(FR)Divers modes de réalisation de l'invention se rapportent à une composition pour le traitement d'une formation souterraine et à des procédés et systèmes comprenant cette dernière. Dans divers modes de réalisation, la présente invention porte sur un procédé de traitement d'une formation souterraine qui peut comprendre l'obtention ou l'utilisation d'une composition aqueuse comprenant un polymère hydrosoluble réduisant le frottement comprenant environ Z1 mol% d'un motif répété éthylène comprenant un groupe -C(O)NHR1 et comprenant environ N1 mol% d'un motif répété éthylène comprenant un groupe -C(O)R2. À chaque occurrence, R1 peut représenter indépendamment un groupe hydrocarbyle en C5-C50 substitué ou non substitué. À chaque occurrence, R2 peut être indépendamment choisi dans le groupe constitué par -NH2 et -OR3, R3 étant à chaque occurrence indépendamment choisi dans le groupe constitué par -R1, -H et un contre-ion. Les motifs répétés peuvent être en configuration séquencée, alternée ou statistique. La variable Z1 peut valoir environ 0,001 % à environ 50 %, N1 peut valoir environ 50 % à environ 99,999% et la somme Z1 + N1 peut valoir environ 100 %. Le procédé comprend également la mise en place de la composition dans un fond de puits de formation souterraine.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)