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1. (WO2015112335) MESURE DE L'ÉPAISSEUR D'UN FILM SUR UN SUBSTRAT ARBITRAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112335    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/010519
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : BUDIARTO, Edward; (US).
NOWAK, Thomas; (US).
EGAN, Todd; (US).
STARIK, Sergey; (UA)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US)
Données relatives à la priorité :
61/929,610 21.01.2014 US
Titre (EN) MEASUREMENT OF FILM THICKNESS ON AN ARBITRARY SUBSTRATE
(FR) MESURE DE L'ÉPAISSEUR D'UN FILM SUR UN SUBSTRAT ARBITRAIRE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure enable measurement of film properties, such as thickness, using reflectometry regardless of the underlying pattern on the substrate or base layer because the amount of phase shift resulting from the growing film at any wavelength is independent of the substrate or base layer. One embodiment of the method includes determining properties of the substrate from a time series data. Another embodiment of the method includes removing a plasma background for measuring data by making two consecutive measurement with a light source on and off respectively. Another embodiment includes determining a deposition start time by monitoring a plasma marker or a phase shift of optical properties.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention permettent la mesure de propriétés d'un film, par exemple l'épaisseur, en utilisant la réflectométrie indépendamment d'un motif sous-jacent de substrat ou de couche de base, car le niveau de déphasage résultant du film croissant à une longueur d'onde quelconque est indépendant du substrat ou de la couche de base. Un mode de réalisation du procédé comprend la détermination des propriétés du substrat à partir de données chronologiques. Un autre mode de réalisation du procédé comprend la suppression d'un arrière-plan de plasma pour mesurer les données en effectuant deux mesures consécutives respectivement avec une source de lumière allumée et éteinte. Un autre mode de réalisation comprend la détermination d'un moment de début du dépôt en surveillant un marqueur de plasma ou un déphasage des propriétés optiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)