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1. (WO2015112310) MEMBRANE UVE MONOLITHIQUE À SUPPORT EN MAILLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112310    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/072588
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 29.12.2014
CIB :
G03F 1/22 (2012.01), G03F 1/24 (2012.01), G03F 1/62 (2012.01)
Déposants : LUXEL CORPORATION [US/US]; P.O. Box 1879 60 Saltspring Drive Friday Harbor, WA 98250 (US)
Inventeurs : LAIRSON, Bruce; (US).
GROVE, David; (US).
LOPEZ, Heidi; (US).
AYERS, Travis; (US)
Mandataire : CLOUTIER, Priya, Sinha; (US)
Données relatives à la priorité :
61/932,017 27.01.2014 US
Titre (EN) A MONOLITHIC MESH-SUPPORTED EUV MEMBRANE
(FR) MEMBRANE UVE MONOLITHIQUE À SUPPORT EN MAILLE
Abrégé : front page image
(EN)The current application teaches embodiments of an EUV transparent support mesh and methods of manufacturing the same.
(FR)La présente invention concerne des modes de réalisation d'une maille de support transparente aux UV extrêmes, et des procédés de fabrication de celle-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)