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1. (WO2015112217) SOURCES DE PHOTONS TRIPLETS DIRECTEMENT APPARIÉS ET PROCÉDÉS POUR LEUR CONCEPTION ET LEUR FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/112217    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/063462
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 31.10.2014
CIB :
G02F 1/355 (2006.01), G02F 1/365 (2006.01)
Déposants : PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; 17 Quincy Street Cambridge, Massachusetts 02138 (US)
Inventeurs : MAZUR, Eric; (US).
EVANS, Christopher Courtney; (US).
MOEBIUS, Michael Gerhard; (US).
RESHEF, Orad; (US).
GRIESSE-NASCIMENTO, Sarah E.; (US)
Mandataire : MOLLAAGHABABA, Reza; (US)
Données relatives à la priorité :
61/898,190 31.10.2013 US
Titre (EN) DIRECT ENTANGLED TRIPLET-PHOTON SOURCES AND METHODS FOR THEIR DESIGN AND FABRICATION
(FR) SOURCES DE PHOTONS TRIPLETS DIRECTEMENT APPARIÉS ET PROCÉDÉS POUR LEUR CONCEPTION ET LEUR FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)The present teachings are generally directed to devices and methods for triplet photons generations, and in particular to on-chip integrated sources for generating direct triplet entangled photons.
(FR)La présente invention concerne de manière générale des dispositifs et des procédés de génération de photons triplets, et en particulier des sources intégrées sur une puce destinées à générer des photons triplets directement appariés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)