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1. (WO2015111800) APPAREIL DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE UTILISANT LA STÉRÉOLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111800    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/003644
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 25.04.2014
CIB :
B29C 67/00 (2006.01)
Déposants : SOGANG UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION [KR/KR]; 35, Baekbeom-ro Mapo-gu Seoul 121-742 (KR)
Inventeurs : CHOI, Bum-Kyoo; (KR).
LEE, Jung-Chul; (KR).
KIM, Seok-Beom; (KR)
Mandataire : MI PATENT & LAW FIRM; 5F, 45, Teheran-ro 4-gil Gangnam-gu, Seoul 135-935 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0007286 21.01.2014 KR
Titre (EN) STRUCTURE MANUFACTURING APPARATUS USING STEREOLITHOGRAPHY
(FR) APPAREIL DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE UTILISANT LA STÉRÉOLITHOGRAPHIE
(KO) 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
Abrégé : front page image
(EN)The technical objective of the present invention is to provide a structure manufacturing apparatus using stereolithography that can manufacture a nano-scale structure or a structure having a smoother surface due to lamination of nano-scale thickness. To this end, the structure manufacturing apparatus using stereolithography of the present invention comprises: a power supply unit; a first oscillator that receives power from the power supply unit and oscillates first light in the near ultraviolet band; a transmission unit that transmits the first light so as to correspond to a two-dimensional image among images provided by an external device; a prism that totally reflects the light transmitted from the transmission unit so as to generate inhomogeneous waves; and a photocurable material reservoir that accommodates photocurable material which is hardened into a two-dimensional structure by the generated inhomogeneous waves.
(FR)L'invention concerne un appareil de fabrication d'une structure utilisant la stéréolithographie, ledit appareil pouvant produire une structure de l'ordre du nanomètre ou une structure ayant une face plus lisse au moyen d'un empilement d'épaisseur nanométrique. A cet effet, l'appareil de l'invention comprend les éléments suivants : une unité d'alimentation électrique ; un premier oscillateur qui reçoit de l’électricité provenant de l'unité d'alimentation électrique et fait osciller la première lumière dans le proche ultraviolet ; une unité de transmission qui transmet la première lumière et la fait correspondre à une image bidimensionnelle parmi les images proposées par un dispositif externe ; un prisme qui réfléchit totalement la lumière transmise par l’unité de transmission et génère des ondes non homogènes ; et un réservoir de matière photovulcanisable qui contient une matière photocvulcanisable qui durcit et se transforme en une structure bidimensionnelle sous l'effet des ondes non homogènes générées.
(KO)본 발명은 나노스케일의 구조물을 제작하거나 나노스케일 두께의 적층을 통해 좀 더 매끄러운 표면을 갖는 구조물을 제작할 수 있는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치는, 전원 공급부; 상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받아 근자외선 대역의 제1 빛을 발진시키는 제1 발진기; 상기 제1 빛을 외부 장치에서 제공하는 이미지 중 2차원 이미지에 맞게 송사하는 송사 유닛; 상기 송사 유닛에서 송사되는 빛을 전반사시켜 소멸파를 생성시키는 프리즘; 및 상기 생성된 소멸파에 의해 2차원 구조물로 경화되는 광경화성 물질을 수용한 광 경화성 물질 저장기를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)