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1. (WO2015111660) MATÉRIAU DE BASE AYANT UNE COUCHE ANTI-REFLET, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111660    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051695
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 22.01.2015
CIB :
G02B 5/02 (2006.01), B05D 1/02 (2006.01), B05D 5/06 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : TAKAI, Azusa; (JP).
MOTOTANI, Satoshi; (JP).
OTANI, Yoshimi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-011674 24.01.2014 JP
Titre (EN) BASE MATERIAL WITH ANTI-GLARE LAYER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU DE BASE AYANT UNE COUCHE ANTI-REFLET, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) アンチグレア層付き基材およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a base material with anti-glare layer, that is capable of highly efficient diffuse reflection of external light, is capable of sufficiently suppressing glare, and has excellent anti-glare properties; and a production method for the base material with anti-glare layer. The base material (1) with anti-glare layer has a base material (10) and an anti-glare layer (12) formed upon the base material (10). The anti-glare layer (12) contains a silica-based matrix and does not contain silica microparticles or contains both a silica-based matrix and silica microparticles. The number of protrusions (NP) on the surface of the anti-glare layer (12), measured using a specific protrusion number measurement method, is at least 37. In the production method for the base material with anti-glare layer, a coating fluid including a silica-based matrix precursor and a dispersion medium is sprayed, using a spray method, on to the base material (10) that has been heated, and the anti-glare layer (12) is formed.
(FR)L'invention concerne un matériau de base ayant une couche anti-reflet, qui peut diffuser de façon très efficace une réflexion de lumière externe, peut supprimer suffisamment un reflet, et a d'excellentes propriétés anti-reflet ; et un procédé de production de matériau de base ayant une couche anti-reflet. Le matériau de base (1) ayant une couche anti-reflet a un matériau de base (10) et une couche anti-reflet (12) formée sur le matériau de base (10). La couche anti-reflet (12) comprend une matrice à base de silice et ne contient pas de microparticules de silice, ou contient à la fois une matrice à base de silice et des microparticules de silice. Le nombre de saillies (NP) sur la surface de la couche anti-reflet (12), mesuré à l'aide d'un procédé de mesure de nombre de saillies spécifique, est d'au moins 37. Dans le procédé de production de matériau de base ayant une couche anti-reflet, un fluide de revêtement comprenant un précurseur de matrice à base de silice et un milieu de dispersion est pulvérisé, à l'aide d'un procédé de pulvérisation, sur le matériau de base (10) qui a été chauffé, et la couche anti-reflet (12) est formée.
(JA) 外光を高効率に乱反射させつつ、ぎらつきを充分に抑制でき、優れた防眩性を有するアンチグレア層付き基材、および該アンチグレア層付き基材の製造方法を提供する。 基材10と、基材10上に形成されたアンチグレア層12とを有し、アンチグレア層12がシリカ系マトリックスを含有し、かつシリカ微粒子を含有しない層、またはシリカ系マトリックスおよびシリカ微粒子を含有する層であり、アンチグレア層12の表面において特定の凸部数計測方法で計測される凸部数Nが37個以上であるアンチグレア層付き基材1。また、シリカ系マトリックスの前駆体と分散媒を含む塗布液を加熱された基材10上にスプレー法で噴霧して、アンチグレア層12を形成する、アンチグレア層付き基材の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)