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1. (WO2015111616) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PLATEAU DE TRANSPORT DE TRANCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111616    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051523
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 21.01.2015
CIB :
H01L 21/673 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : NAKAMURA Toshiyuki; (JP).
MORIGUCHI Naoki; (JP).
KAMIMURA Ryuichiro; (JP).
OSADA Yamato; (JP).
AIHARA Tsuyoshi; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-009682 22.01.2014 JP
Titre (EN) PLASMA TREATMENT DEVICE AND WAFER TRANSPORTATION TRAY
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PLATEAU DE TRANSPORT DE TRANCHE
(JA) プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ
Abrégé : front page image
(EN) This plasma treatment device is provided with: a wafer transportation tray having a first surface and a second surface opposite the first surface, the wafer transportation tray holding the wafer on the first surface; a cooling unit for cooling the wafer transportation tray; an electroconductive support body for supporting the second surface of the wafer transportation tray; and a double-sided electrostatic suction unit for electrostatically chucking the wafer on the first surface of the wafer transportation tray and electrostatically chucking the support body on the second surface of the wafer transportation tray.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de traitement par plasma qui est pourvu: d'un plateau de transport de tranche ayant une première surface et une seconde surface opposée à la première surface, le plateau de transport de tranche portant la tranche sur la première surface; d'une unité de refroidissement pour refroidir le plateau de transport de tranche; d'un corps de support conducteur de l'électricité pour porter la seconde surface du plateau de transport de tranche; d'une unité d'aspiration électrostatique double face pour fixer en mandrin électrostatique la tranche sur la première surface du plateau de transport de tranche et pour fixer en mandrin électrostatique le corps de support sur la seconde surface du plateau de transport de tranche.
(JA) 本発明のプラズマ処理装置は、第1の面と前記第1の面とは反対の第2の面とを有し、前記第1の面でウェハを保持するウェハ搬送用トレイと、前記ウェハ搬送用トレイを冷却する冷却部と、前記ウェハ搬送用トレイの前記第2の面を支持する導電性の支持体と、前記ウェハ搬送用トレイの前記第1の面で前記ウェハを静電吸着し、前記ウェハ搬送用トレイの前記第2の面で前記支持体を静電吸着する両面静電吸着部と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)