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1. (WO2015111563) CIBLE D'OR OU DE PLATINE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111563    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051328
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 20.01.2015
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), B21B 1/22 (2006.01), B21B 3/00 (2006.01), B21J 1/02 (2006.01), B21J 1/06 (2006.01), B21J 5/00 (2006.01), C22F 1/14 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01)
Déposants : FURUYA METAL CO., LTD. [JP/JP]; 37-5, Minami Otsuka 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700005 (JP)
Inventeurs : MARUKO, Tomohiro; (JP).
SUZUKI, Yu; (JP).
SAITO, Shoji; (JP).
ITO, Amiko; (JP).
TAKAISHI, Yusuke; (JP).
KIKUCHI, Nobuo; (JP).
KANEKO, Daishi; (JP).
MATSUMOTO, Eiji; (JP)
Mandataire : IMASHITA, Katsuhiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-011337 24.01.2014 JP
Titre (EN) GOLD OR PLATINUM TARGET, AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
(FR) CIBLE D'OR OU DE PLATINE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
(JA) 金又は白金ターゲット及びそれらの製造方法
Abrégé : front page image
(EN) The purpose of the present invention is to reduce the average crystal grain size of gold or platinum in a target in order to enhance the consistency of film deposition characteristics during sputtering, and to fabricate a target having uniform average crystal grain size in in-plane directions of the target surfaces and in the thickness direction of the target. This production method for a gold or platinum target has: an ingot fabrication step for casting molten gold or platinum to obtain an ingot; a primary forging step for forging the ingot in a first temperature range; a step for cooling the primary-forged ingot to a second temperature lower than the first temperature range; a secondary forging step for determining six directions, and further forging the cooled primary-forged ingot from the six directions in the second temperature range; a cross-rolling working step for adjusting the secondary-forged ingot to a third temperature range and carrying out cross-rolling working, producing a target shape; and a heat treatment step for heat-treating the target-shaped ingot in a fourth temperature range.
(FR) La présente invention a pour objet la diminution de la taille de grain de cristal moyenne de l'or ou du platine dans une cible pour augmenter la cohérence des caractéristiques de dépôt de pellicule pendant la pulvérisation, et fabriquer une cible présentant une taille de grain de cristal moyenne uniforme dans les directions du plan des surfaces de la cible et dans la direction de l'épaisseur de la cible. Le présent procédé de production d'une cible d'or ou de platine inclut : une étape de fabrication de lingot pour le coulage d'or ou de platine fondu de sorte à obtenir un lingot ; une première étape de forgeage pour forger le lingot dans une première plage de température ; une étape de refroidissement du lingot de premier forgeage jusqu'à une deuxième température inférieure à la première plage de température ; une étape de forgeage secondaire pour la détermination de six directions, et le forgeage supplémentaire du lingot de premier forgeage refroidi dans les six directions dans la deuxième plage de température ; une étape d'usinage par rouleaux croisés pour ajuster le lingot de forgeage secondaire à une troisième plage de température et mettre en œuvre un usinage par rouleaux croisés, de sorte à obtenir une forme de cible ; et une étape de traitement thermique pour le traitement thermique du lingot en forme de cible dans une quatrième plage de température.
(JA) 本発明の目的は、スパッタリング時の成膜特性安定化をより高めるため、ターゲットにおいて、金又は白金の平均結晶粒径が小さく、かつ、ターゲット面の面内方向及びターゲットの厚さ方向の結晶粒径が均一なターゲットを作製することである。本発明に係る金又は白金ターゲットの製造方法は、溶融した金又は白金を注湯してインゴットを得るインゴット作製工程と、第一温度範囲において、インゴットを鍛造する一次鍛造工程と、一次鍛造インゴットを、第一温度範囲よりも低く、かつ、第二温度範囲に冷却する工程と、冷却した一次鍛造インゴットを、六方向を決めて前記第二温度範囲にて六方向からさらに鍛造する二次鍛造工程と、二次鍛造インゴットを第三温度範囲に調整してクロス圧延加工を行ない、ターゲット形状とするクロス圧延加工工程と、ターゲット形状のインゴットを第四温度範囲にて熱処理する熱処理工程と、を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)