WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015111546) MICROPARTICULES DE RÉSINE DE POLY(SULFURE DE PHÉNYLÈNE), LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET LIQUIDE DE DISPERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111546    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051247
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 19.01.2015
CIB :
C08J 3/12 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI, Toshiya; (JP).
MAKITA, Kei; (JP).
SAKANE, Tomohiro; (JP).
AKASAKA, Hiroaki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-011258 24.01.2014 JP
Titre (EN) POLYPHENYLENE SULPHIDE RESIN MICROPARTICLES, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND DISPERSION LIQUID
(FR) MICROPARTICULES DE RÉSINE DE POLY(SULFURE DE PHÉNYLÈNE), LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET LIQUIDE DE DISPERSION
(JA) ポリフェニレンスルフィド樹脂微粒子、その製造方法および分散液
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: polyphenylene sulphide resin microparticles having little gas generation when heated, a production method therefor, and a dispersion liquid therefor. The production method includes steps (a) and (b) and uses as a raw material therefor polyphenylene sulphide resin indicated by formula (1) and having a weight reduction (ΔWr) when heated of no more than 0.18%. (a) a step (dissolving step) in which the polyphenylene sulphide resin is dissolved in an organic solvent solution. (b) a step (deposition step) in which flash crystallization is performed and polyphenylene sulphide resin microparticles are deposited. (1) ΔWr = (W1 - W2)/W1 × 100 (%) (a value found from a sample weight (W2) at a point that 330°C is reached, on the basis of a sample weight (W1) at the point that 100°C is reached, when thermogravimetric analysis is performed at a temperature increase speed of 20°C/min from 50°C to any temperature at least 330°C, in a normal pressure, non-oxidizing atmosphere.)
(FR)La présente invention concerne : des microparticules de résine de poly(sulfure de phénylène) générant peu de gaz une fois chauffée, leur procédé de production, et un liquide de dispersion associé. Le procédé de production comprend les étapes (a) et (b) et utilise comme matière première associée de la résine de poly(sulfure de phénylène) représentée par la formule (1) et présentant une réduction du poids (ΔWr) une fois chauffée inférieure à 0,18 %. (a) une étape (étape de dissolution) dans laquelle de la résine de poly(sulfure de phénylène) est dissoute dans une solution de solvant organique. (b) une étape (étape de dépôt) dans laquelle est mise en œuvre une cristallisation éclair et des microparticules de résine de poly(sulfure de phénylène) sont déposées. (1) ΔWr = (W1 - W2) / W1 × 100 (%) (une valeur obtenue pour un poids (W2) d'échantillon lorsque la température atteint 330 °C, sur la base d'un poids (W1) d'échantillon lorsque la température atteint 100 °C, lors d'une analyse thermogravimétrique à une vitesse d'augmentation de température de 20 °C/min à partir de 50 °C jusqu'à une température quelconque supérieure ou égale à 330 °C, sous atmosphère non oxydante, à pression normale).
(JA) 均一で、加熱時のガス発生量の少ない、ポリフェニレンスルフィド樹脂微粒子、その製造方法、およびその分散液を提供する。 下記式(1)で表される加熱時の重量減少率ΔWrが0.18%以下のポリフェニレンスルフィド樹脂を原料として、下記の工程(a)、(b)を含む製造方法である。 (a)ポリフェニレンスルフィド樹脂の有機溶媒溶解液とする工程(溶解工程) (b)フラッシュ晶析してポリフェニレンスルフィド樹脂の微粒子を析出させる工程(析出工程) ΔWr=(W1-W2)/W1×100(%)・・・(1) (常圧の非酸化性雰囲気下で50℃から330℃以上の任意温度まで昇温速度20℃/分で熱重量分析を 行った際に、100℃到達時点の試料重量(W1)を基準とした330℃到達時の試料重量(W2)から求められる値)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)