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1. (WO2015111510) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111510    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051032
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 16.01.2015
CIB :
H01S 3/23 (2006.01), H01S 3/063 (2006.01), H01S 3/10 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : SUGANUMA, Takashi; (JP).
YABU, Takayuki; (JP).
WAKABAYASHI, Osamu; (JP).
NOGIWA, Seiji; (JP)
Mandataire : TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 3F, Sawada Building, 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2014/051675 27.01.2014 JP
Titre (EN) LASER DEVICE AND EUV-LIGHT GENERATION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
(JA) レーザ装置、及び極端紫外光生成システム
Abrégé : front page image
(EN)This invention may include the following: a master oscillator that outputs laser light; a laser amplifier placed in the path of the laser light outputted by the master oscillator; and an adjuster placed in the path of the laser light whereby in the vicinity of the beam waist of the laser light amplified by the laser amplifier, the cross-sectional shape of the beam in a plane perpendicular to the axis of the light path is adjusted so as to be substantially circular.
(FR)Cette invention peut comprendre les éléments suivants : un oscillateur maître qui transmet une lumière laser ; un amplificateur laser placé sur le trajet de la lumière laser transmise par l'oscillateur maître ; et un ajusteur placé sur le trajet de la lumière laser, moyennant quoi à proximité de la taille minimale du faisceau de la lumière laser amplifiée par l'amplificateur laser, la forme en coupe transversale du faisceau dans un plan perpendiculaire à l'axe du trajet de la lumière est ajustée de sorte à être sensiblement circulaire.
(JA) レーザ光を出力するマスタオシレータと、マスタオシレータから出力されたレーザ光の光路上に配置されたレーザ増幅器と、レーザ光の光路上に配置され、レーザ増幅器によって増幅されたレーザ光のビームウエスト近傍における、光路軸に直交する面内でのビーム断面形状を略円形となるように調節する調節器とを備えてもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)