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1. (WO2015111372) VANNE DE DÉPRESSION ET SON PROCESSUS DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111372    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/000041
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
H01H 33/662 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP)
Inventeurs : ASARI, Naoki; (JP).
SATO, Junichi; (JP).
SHIOIRI, Tetsu; (JP).
SEKIMORI, Yuki; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; PMO Kanda Tsukasa-machi, 8-1, Kanda Tsukasa-machi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-011101 24.01.2014 JP
Titre (EN) VACUUM VALVE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) VANNE DE DÉPRESSION ET SON PROCESSUS DE FABRICATION
(JA) 真空バルブおよびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This vacuum valve has: a cylindrical vacuum insulation vessel (1) made of an alumina ceramic; sealing fittings (2, 3) which seal both openings of the vacuum insulation vessel (1) respectively; and one pair of contacts (5, 6) held in the vacuum insulation vessel (1) in such way that the contacts (5, 6) come freely into contact with or separate freely from each other. The vacuum insulation vessel (1) has: a base layer (1c) made of an oxidized alumina; and advancedly oxidized layers (1a, 1b) which are formed by re-heating in the inner and outer peripheral surfaces of the base layer (1c) and in which the combination with oxygen is advanced. In the advancedly oxidized layers (1a, 1b), oxygen-deficient parts where the combination with oxygen is deficient are restored, so that the electrification of the vacuum insulation vessel (1) is inhibited.
(FR)L’invention porte sur une vanne de dépression qui possède : une cuve d’isolation sous vide cylindrique (1) réalisée en céramique d’alumine ; des encastrements d’étanchéité (2, 3) qui scellent de manière étanche les deux ouvertures de la cuve d’isolation sous vide (1) respectivement ; et une paire de contacts (5, 6) maintenus dans la cuve d’isolation sous vide (1) de telle sorte que les contacts (5, 6) viennent librement en contact l'un avec l'autre ou se séparent librement l’un de l’autre. La cuve d’isolation sous vide (1) possède : une couche de base (1c) réalisée en une alumine oxydée ; et des couches oxydées de manière avancée (1a, 1b) qui sont formées par chauffage supplémentaire dans les surfaces périphériques interne et externe de la couche de base (1c) et dont la combinaison avec de l’oxygène est avancée. Dans les couches oxydées de manière avancée (1a, 1b), des parties qui manquent d’oxygène où la combinaison avec de l’oxygène est insuffisante sont restaurées, de telle sorte que l’électrification de la cuve d’isolation sous vide (1) est inhibée.
(JA)真空バルブは、アルミナ磁器よりなる筒状の真空絶縁容器(1)と、真空絶縁容器(1)の両端開口部に封着された封着金具(2、3)と、真空絶縁容器(1)に収納された接離自在の一対の接点(5、6)とを有する。真空絶縁容器(1)は、酸化アルミナの基材層(1c)と、再加熱により基材層(1c)の内外周の表面に設けられた酸素結合を促進させた酸化促進層(1a、1b)とを有する。酸化促進層(1a、1b)では、酸素結合が欠損した酸素欠陥部が修復され、帯電を抑制する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)