WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015111219) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/111219    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/051675
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 27.01.2014
CIB :
H01S 3/23 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01), H01S 3/10 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400 Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : SUGANUMA, Takashi; (JP).
YABU, Takayuki; (JP).
WAKABAYASHI, Osamu; (JP)
Mandataire : TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 3F, Sawada Building, 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER DEVICE AND EUV-LIGHT GENERATION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
(JA) レーザ装置、及び極端紫外光生成システム
Abrégé : front page image
(EN)This invention may include the following: a master oscillator that outputs laser light; a laser amplifier placed in the path of the laser light outputted by the master oscillator; and an adjuster placed in the path of the laser light whereby in the vicinity of the beam waist of the laser light amplified by the laser amplifier, the cross-sectional shape of the beam in a plane perpendicular to the axis of the light path is adjusted so as to be substantially circular.
(FR)L'invention concerne un dispositif laser et peut inclure ce qui suit : un oscillateur de référence qui délivre de la lumière laser ; un amplificateur de laser placé dans le chemin de la lumière laser délivrée par l'oscillateur de référence ; et un élément de réglage placé dans le chemin de la lumière laser. À proximité de la partie centrale du faisceau de lumière laser amplifiée par l'amplificateur de laser, la forme de la section transversale du faisceau dans un plan perpendiculaire à l'axe du chemin de la lumière laser est réglée de manière à être sensiblement circulaire.
(JA) レーザ光を出力するマスタオシレータと、マスタオシレータから出力されたレーザ光の光路上に配置されたレーザ増幅器と、レーザ光の光路上に配置され、レーザ増幅器によって増幅されたレーザ光のビームウエスト近傍における、光路軸に直交する面内でのビーム断面形状を略円形となるように調節する調節器とを備えてもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)