WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015110273) DISPOSITIF ET MÉTHODE DE TRAITEMENT NON INVASIF DE LA PEAU À L'AIDE D'UNE LUMIÈRE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/110273    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/050018
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 04.01.2015
CIB :
A61B 18/20 (2006.01), A61B 18/00 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Inventeurs : VARGHESE, Babu; (NL).
JURNA, Martin; (NL).
PALERO, Jonathan Alambra; (NL).
HORTON, Margaret Ruth; (NL).
ZEITOUNY, Mounir; (NL).
VERHAGEN, Rieko; (NL)
Mandataire : WOLFS, Marc Johannes Maria; (NL)
Données relatives à la priorité :
14151850.6 21.01.2014 EP
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR NON-INVASIVE TREATMENT OF SKIN USING LASER LIGHT
(FR) DISPOSITIF ET MÉTHODE DE TRAITEMENT NON INVASIF DE LA PEAU À L'AIDE D'UNE LUMIÈRE LASER
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates generally to the treatment of skin using laser light, and more particularly to a non-invasive device and method for such treatment. During skin treatments, heating of the epidermis is undesired because it may cause discomfort for the person being treated, adverse skin reactions and unwanted changes in skin pigment. The invention provides a laser treatment beam having a first 22a and a second 22b beam region of non-zero light intensity disposed at a periphery of a transverse cross-section of the beam, and a third beam region 22c, arranged between the first 22a and the second 22b beam region, of lower light intensity than said non-zero light intensity. The treatment beam 22 exits the device 10 along its optical treatment axis 13. As the treatment beam 22 passes through an outer layer of the skin to the focal spot 25 along the optical treatment axis (13), the extent of the third beam region 22c is predetermined and/or controlled so as to provide a corresponding third skin region 23c in the outer skin layer16, arranged between the first 23a and the second skin region 23b, and the lower light intensity of the third beam region is predetermined and/or controlled to provide a maximum temperature during a pulse of the laser treatment beam with in the third skin region 23c which is lower than the maximum temperatures during said pulse of the laser treatment beam within the first 23a and the second 23b skin region. The light source 20 is configured and arranged to provide, in use, a pulse duration of the pulse of the laser treatment beam which is longer than the thermal relaxation time of the first 23a and the second 23b skin region. By predetermining and/or controlling the dimensions of the third skin region 23c, a suitably dimensioned heat sink is created, centrally located within the region being heated by the laser treatment beam, and used to avoid temperature hot spots in the outer layers of the skin.
(FR)La présente invention concerne, en général, le traitement de la peau à l'aide d'une lumière laser et, plus particulièrement, un dispositif et une méthode non invasifs pour ledit traitement. Lors de traitements de la peau, il n'est pas souhaitable de chauffer l'épiderme car cela peut entraîner un inconfort pour la personne traitée, des réactions négatives de la peau et des changements indésirables du pigment de la peau. L'invention concerne un faisceau de traitement laser qui présente une première (22a) et une deuxième (22b) région de faisceau d'une intensité lumineuse différente de zéro, disposées à une périphérie d'une section transversale du faisceau, ainsi qu'une troisième région (22c) de faisceau, agencée entre la première (22a) et la deuxième (22b) région de faisceau, d'une intensité lumineuse inférieure à ladite intensité lumineuse différente de zéro. Le faisceau de traitement (22) sort du dispositif (10) le long de son axe (13) de traitement optique. Tandis que le faisceau de traitement (22) passe à travers une couche externe de la peau jusqu'au point focal (25) le long de l'axe (13) de traitement optique, l'étendue de la troisième région (22c) de faisceau est prédéfinie et/ou commandée de manière à fournir une troisième région (23c) de peau correspondante dans la couche (16) de peau externe, agencée entre la première (23a) et la deuxième (23b) région de peau et l'intensité lumineuse inférieure de la troisième région de faisceau est prédéfinie et/ou commandée afin de fournir une température maximum, pendant une impulsion du faisceau de traitement laser dans la troisième région (23c) de peau, qui soit inférieure aux températures maximum pendant ladite impulsion du faisceau de traitement laser dans les première (23a) et deuxième (23b) régions de peau. La source lumineuse (20) est conçue et agencée pour fournir, en cours d'utilisation, une durée d'impulsion de l'impulsion du faisceau de traitement laser qui soit plus longue que le temps de relâchement thermique des première (23a) et deuxième (23b) régions de peau. En prédéfinissant et/ou en commandant les dimensions de la troisième région (23c) de peau, un dissipateur thermique correctement dimensionné est créé, situé au plan central dans la région chauffée par le faisceau de traitement laser et utilisé pour éviter les points chauds de température dans les couches externes de la peau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)