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1. (WO2015109927) MAGNÉTRON ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION MAGNÉTRON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/109927    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/095758
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 31.12.2014
CIB :
H01J 23/087 (2006.01), H01J 25/50 (2006.01)
Déposants : BEIJING NMC CO., LTD. [CN/CN]; No.8 Wenchang Avenue, Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : YANG, Yujie; (CN).
LI, Qiang; (CN).
QIU, Guoqing; (CN).
BAI, Zhimin; (CN).
WANG, Hougong; (CN).
DING, Peijun; (CN).
LV, Feng; (CN)
Mandataire : TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Tianshu ZHANG 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410032274.9 23.01.2014 CN
Titre (EN) MAGNETRON AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
(FR) MAGNÉTRON ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION MAGNÉTRON
(ZH) 磁控管及磁控溅射设备
Abrégé : front page image
(EN)A magnetron (100) and a magnetron sputtering device, comprising an inner magnetic pole (120) and an outer magnetic pole (130) with opposite polarities. Both the inner magnetic pole (120) and the outer magnetic pole (130) comprise multiple spirals (122, 124, 126, 132, 134, 136). The spirals (132, 134, 136) of the outer magnetic pole (130) surround the spirals (122, 124, 126) of the inner magnetic pole (120), and a gap (140) exists therebetween. In addition, the gap (140) has different widths in different locations from a spiral center to an edge. Moreover, both the spirals (132, 134, 136) of the outer magnetic pole (130) and the spirals (122, 124, 126) of the inner magnetic pole (120) follow a polar equation: r=a×θn+b×(cosθ)m+c×(tanθ)k+d, 0≤n≤2, 0≤m≤2, c=0 or k=0. Because the gap (140) between the inner magnetic pole (120) and the outer magnetic pole (130) has the different widths in a spiral discrete direction, width sizes of the gap (140) in the different locations can be changed to control magnetic field strength distribution in a plane, thus adjusting uniformity of a membrane thickness.
(FR)La présente invention se rapporte à un magnétron (100) et à un dispositif de pulvérisation magnétron qui comprennent un pôle magnétique intérieur (120) et un pôle magnétique extérieur (130) ayant des polarités opposées. Le pôle magnétique intérieur (120) et le pôle magnétique extérieur (130) comportent plusieurs spirales (122, 124, 126, 132, 134, 136). Les spirales (132, 134, 136) du pôle magnétique extérieur (130) entourent les spirales (122, 124, 126) du pôle magnétique intérieur (120), et un interstice (140) se trouve entre elles. En outre, l'interstice (140) possède des largeurs différentes à divers emplacements depuis le centre d'une spirale jusqu'à un bord. De plus, les spirales (132, 134, 136) du pôle magnétique extérieur (130) et les spirales (122, 124, 126) du pôle magnétique intérieur (120) respectent l'équation polaire suivante : r = a×θn + b×(cosθ)m + c×(tanθ)k + d, où 0 ≤ n ≤ 2, 0 ≤ m ≤ 2, c = 0 ou k = 0. Puisque l'interstice (140) entre le pôle magnétique intérieur (120) et le pôle magnétique extérieur (130) possède des largeurs différentes dans une direction de spirale discrète, les largeurs de cet interstice (140) aux divers emplacements peuvent être modifiées afin de réguler la distribution d'intensité de champ magnétique dans un plan, ce qui permet d'ajuster l'uniformité d'une épaisseur de membrane.
(ZH)一种磁控管(100)及磁控溅射设备,包括极性相反的内磁极(120)和外磁极(130),内磁极(120)和外磁极(130)均由多条螺旋线(122、124、126、132、134、136)组成,外磁极(130)的螺旋线(132、134、136)包围内磁极(120)的螺旋线(122、124、126),且二者之间具有间隙(140);并且,间隙(140)自螺旋中心至边缘的不同位置处的宽度不同;并且,外磁极(130)的螺旋线(132、134、136)与内磁极(120)的螺旋线(122、124、126)均遵循极坐标方程:r=a×θ n+b×(cosθ) m+c×(tanθ) k+d,0≤n≤2,0≤m≤2、c=0或k=0。由于内磁极(120)和外磁极(130)在螺旋离散方向上的间隙(140)的宽度不同,因此可以通过改变不同位置处间隙(140)的宽度大小来控制平面内的磁场强度分布,从而调整薄膜厚度的均匀性。 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)