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1. (WO2015109826) PHOTORÉSINE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ET PROCÉDÉ D'UTILISATION ASSOCIÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/109826    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/084515
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 15.08.2014
CIB :
G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/16 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : WANG, Jianguo; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410036953.3 26.01.2014 CN
Titre (EN) PHOTORESIST, AND MANUFACTURING METHOD AND USAGE METHOD THEREFOR
(FR) PHOTORÉSINE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ET PROCÉDÉ D'UTILISATION ASSOCIÉS
(ZH) 一种光刻胶及其制作方法和使用方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a photoresist. The photoresist comprises: 1 to 90 parts of film-forming resin containing a hydroxyl or carboxyl group, 1 to 99 parts of vinyl ether monomer containing silicon and organic solvent which can dissolve the substances. Also disclosed are a manufacturing method and a usage method for the photoresist.
(FR)L'invention concerne une photorésine. La photorésine comprend : de 1 à 90 parties de résine filmogène contenant un groupe hydroxyle ou carboxyle, de 1 à 99 parties de monomère d'éther vinylique contenant du silicium et un solvant organique qui peut dissoudre les substances. L'invention concerne également un procédé de fabrication et un procédé d'utilisation pour la photorésine.
(ZH)公开了一种光刻胶,所述光刻胶包括1∼90份的含羟基或羧基的成膜树脂、1∼99份的含硅乙烯基醚单体和能够溶解上述物质的有机溶剂。还公开了所述光刻胶的制作方法和使用方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)