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1. (WO2015109687) SYSTÈME DE DÉPÔT PAR LASER À IMPULSIONS ASSISTÉ PAR UN CHAMP MAGNÉTIQUE FORT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/109687    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/077154
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 09.05.2014
CIB :
C23C 14/28 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/58 (2006.01)
Déposants : HEFEI INSTITUTES OF PHYSICAL SCIENCE OF CHINESE ACADEMY OF SCIENCES [CN/CN]; No.350 Shushanhu Road, Shushan District Hefei City, Anhui 230031 (CN)
Inventeurs : DAI, Jianming; (CN).
ZHANG, Kejun; (CN).
LIU, Qinzhuang; (CN).
SHENG, Zhigao; (CN).
ZHU, Xuebin; (CN).
WU, Wenbin; (CN).
SUN, Yuping; (CN)
Mandataire : BEIJING CATALY IP ATTORNEY AT LAW; ZHENG Liming Room505,Block B,State Guest Hotel,NO.9A Fuchengmenwai Street, Xicheng District Beijing 100037 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410033519.X 23.01.2014 CN
Titre (EN) PULSE LASER DEPOSITION SYSTEM ASSISTED BY STRONG MAGNETIC FIELD
(FR) SYSTÈME DE DÉPÔT PAR LASER À IMPULSIONS ASSISTÉ PAR UN CHAMP MAGNÉTIQUE FORT
(ZH) 强磁场辅助脉冲激光沉积系统
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a pulse laser deposition system assisted by a strong magnetic field, comprising a pulse laser and a columnar vacuum chamber for pulse laser deposition. The columnar vacuum chamber for pulse laser deposition comprises a columnar cavity with a water-cooling double-layer jacket. The columnar cavity with the double-layer jacket is placed in the borehole of a superconducting magnet. A flange disk on one side of the columnar cavity with the double-layer jacket is mounted with a substrate heating platform or a laser heating platform and a rotating mechanism thereof, and a flange disk on the other side of the columnar cavity with the double-layer jacket is mounted with a target assembly and a moving/rotating mechanism thereof. The substrate heating platform or the laser heating platform and the target assembly are located in the centre of the strong magnetic field of the superconducting magnet. The entire columnar vacuum chamber for pulse laser deposition is provided on a sliding guide rail. The flange disk on one side is also mounted with a closed laser leading-in cavity and a vacuum-tight leading-in cavity for a video device. The present invention has a low cost, a reasonable structure, is simple and convenient to assemble and operate, stable and reliable in operation, and can be used for in-situ growth and post-annealing heat treatment of a pulse laser deposition film under a strong magnetic field so as to achieve a regulating effect for the micro-structure and the physical properties of the material.
(FR)La présente invention concerne un système de dépôt par laser à impulsions assisté par un champ magnétique fort, comprenant un laser à impulsions et une chambre à vide columnaire pour un dépôt par laser à impulsions. La chambre à vide columnaire pour un dépôt par laser à impulsions comprend une cavité columnaire à chemise à double couche de refroidissement à eau. La cavité columnaire à chemise à double couche est placée dans le trou de forage d'un aimant supraconducteur. Un disque de bride sur un côté de la cavité columnaire à chemise à double couche est équipé d'une plateforme de chauffage de substrat ou d'une plateforme de chauffage par laser et d'un mécanisme tournant associé, et un disque de bride sur l'autre côté de la cavité columnaire à chemise à double couche est équipé d'un ensemble cible et d'un mécanisme mobile/tournant associé. La plateforme de chauffage de substrat ou la plateforme de chauffage par laser et l'ensemble cible sont placés au centre du champ magnétique fort de l'aimant supraconducteur. La chambre à vide columnaire entière pour un dépôt par laser à impulsions est disposée sur un rail de guidage coulissant. Le disque de bride sur un côté est également équipé d'une cavité d'entrée laser fermée et d'une cavité d'entrée étanche sous vide pour un dispositif vidéo. La présente invention comprend une structure raisonnable, bon marché, simple et pratique à assembler et à commander, et peut être utilisée pour une croissance in-situ et un traitement thermique post-recuit d'un film de dépôt par laser à impulsions dans un champ magnétique fort de sorte à atteindre un effet de régulation pour la micro-structure et les propriétés physiques du matériau.
(ZH)本发明涉及一种强磁场辅助脉冲激光沉积系统,包括脉冲激光器、脉冲激光沉积柱状真空室,脉冲激光沉积柱状真空室包括带水冷却的双层夹套柱状腔,双层夹套柱状腔置入超导磁体的镗孔内;双层夹套柱状腔的一侧法兰盘装有基片加热台或激光加热台及其转动机构,双层夹套柱状腔的另一侧法兰盘装有靶组件及其移动/转动机构,基片加热台或者激光加热台和靶组件处于超导磁体的强磁场中部;脉冲激光沉积柱状真空室整体设于滑动导轨上,一侧法兰盘上还安装有密闭的激光导入腔和真空密封的视频装置导入腔。本发明制造成本低、结构合理、装配与操作简便、工作稳定可靠,可用于强磁场下的脉冲激光沉积薄膜原位生长和后退火热处理,实现对材料微结构和物性的调控作用。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)