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1. (WO2015109432) SUBSTRAT DE RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET APPAREIL D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/109432    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/000560
Date de publication : 30.07.2015 Date de dépôt international : 05.06.2014
CIB :
G02F 1/1343 (2006.01), H01L 27/12 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10, Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : XU, Zhiqiang; (CN).
KIM, Heecheol; (CN).
XU, Chao; (CN)
Mandataire : CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD; (CN)
Données relatives à la priorité :
201410032264.5 23.01.2014 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND DISPLAY APPARATUS
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET APPAREIL D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制备方法、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)An array substrate, a manufacturing method therefor, and a display apparatus. The array substrate comprises multiple pixel units (20) disposed in an array manner. Each of the pixel units (20) comprises multiple sub-pixel units (201, 202, 203). Each of the sub-pixel units (201, 202, 203) is corresponding to one first electrode (011). Each of the first electrode (011) comprises multiple strip-shaped structures disposed at an equal interval. Intervals of the strip-shaped structures of the first electrodes (011) corresponding to different sub-pixel units (201, 202, 203) in each of the pixel units (20) are not completely equal. Any of the sub-pixel units (201, 202, 203) meets: Q.W+(Q-1)D
(FR)La présente invention concerne un substrat de réseau, un procédé de fabrication de celui-ci et un appareil d'affichage. Le substrat de réseau comprend de multiples unités de pixel (20) disposées en réseau. Chacune des unités de pixel (20) comprend de multiples sous-unités de pixel (201, 202, 203). Chacune des sous-unités de pixel (201, 202, 203) correspond à une première électrode (011). Chacune des premières électrodes (011) comprend de multiples structures en forme de bandes disposées à intervalles égaux. Les intervalles des structures en forme de bandes des premières électrodes (011) correspondant à différentes sous-unités de pixel (201, 202, 203) dans chacune des unités de pixel (20) ne sont pas totalement égaux. Toutes les sous-unités de pixel (201, 202, 203) obéissent à la relation Q.W + (Q-1)D < A, A étant la largeur de chacune des sous-unités de pixel (201, 202, 203), Q étant le nombre des structures en forme de bandes des premières électrodes (011) correspondant aux sous-unités de pixel (201, 202, 203), D étant l'intervalle des structures en forme de bandes des premières électrodes (011) correspondant aux sous-unités de pixel (201, 202, 203), et W étant la largeur de chacune des structures en forme de bandes de chacune des premières électrodes (011) correspondant à chacune des sous-unités de pixel (201, 202, 203). Le substrat de réseau peut réduire les phénomènes de dominante de couleur de l'appareil d'affichage et améliore l'effet d'affichage.
(ZH)一种阵列基板及其制备方法、显示装置。所述阵列基板包括阵列排布的多个像素单元(20),每个像素单元(20)包括多个子像素单元(201、202、203),每个子像素单元(201、202、203)对应一个第一电极(011),第一电极(011)包括多个等间隔设置的条状结构,每个像素单元(20)中不同子像素单元(201、202、203)对应的第一电极(011)的条状结构的间隔不完全相等;任意子像素单元(201、202、203)满足Q·W+(Q-1)D<A,A为子像素单元(201、202、203)的宽度,Q为子像素单元(201、202、203)对应的第一电极(011)的条状结构的个数,D为子像素单元(201、202、203)对应的第一电极(011)的条状结构的间隔,W为子像素单元(201、202、203)对应的第一电极(011)的条状结构的宽度。所述阵列基板能够减少显示装置的色偏现象,改善显示效果。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)