WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015108729) COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UNITÉS DE DISQUES DURS À MÉMOIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/108729    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/010426
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
C09K 3/14 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; 870 North Commons Drive Aurora, Illinois 60504 (US)
Inventeurs : PALANISAMY CHINNATHAMBI, Selvaraj; (US).
WHITE, Michael; (US)
Mandataire : OMHOLT, Thomas; (US)
Données relatives à la priorité :
14/156,201 15.01.2014 US
Titre (EN) COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING MEMORY HARD DISKS
(FR) COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UNITÉS DE DISQUES DURS À MÉMOIRE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a chemical-mechanical polishing composition containing aluminate-modified silica particles, a polyacrylamide, a heterocyclic film-forming agent, and water. The invention also provides a method of chemically-mechanically polishing a substrate, especially a nickel-phosphorous substrate, by contacting a substrate with a polishing pad and the chemical-mechanical polishing composition, moving the polishing pad and the polishing composition relative to the substrate, and abrading at least a portion of the substrate to polish the substrate.
(FR)L'invention concerne une composition de polissage chimico-mécanique contenant des particules de silice modifiées par de l'aluminium, un polyacrylamide, un agent filmogène hétérocyclique et de l'eau. L'invention concerne également un procédé de polissage chimico-mécanique d'un substrat, notamment un substrat à base de nickel phosphore, par mise en contact d'un substrat avec un tampon de polissage et la composition de polissage chimico-mécanique, le déplacement du tampon de polissage et de la composition de polissage par rapport au substrat et l'abrasion d'au moins une partie du substrat pour polir le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)