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1. (WO2015108386) NOUVEAU COMPOSÉ DE Β-ESTER D'OXIME FLUORÈNE, AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION COMPRENANT CE COMPOSÉ ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/108386    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/000535
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 19.01.2015
CIB :
C07C 251/66 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : SAMYANG CORPORATION [KR/KR]; 31, Jong-ro 33-gil Jongno-gu Seoul 110-725 (KR).
KOREA RESEARCH INSTITUTE OF CHEMICAL TECHNOLOGY [KR/KR]; 141, Gajeong-ro Yuseong-gu Daejeon 305-343 (KR)
Inventeurs : OH, Chun-Rim; (KR).
LEE, Min-Sun; (KR).
LEE, Won-Jung; (KR).
CHO, Yong-Il; (KR).
SHIN, Seung-Rim; (KR).
SHIN, Jong-Il; (KR).
LEE, Sang-Oh; (KR).
JUN, Kun; (KR)
Mandataire : PHIL & ONZI INT'L PATENT & LAW FIRM; 8F., 63, Banpo-daero Seocho-gu, Seoul 137-872 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0006344 17.01.2014 KR
Titre (EN) NOVEL Β-OXIMESTER FLUORENE COMPOUND, A PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR COMPRISING SAME, AND PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ DE Β-ESTER D'OXIME FLUORÈNE, AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION COMPRENANT CE COMPOSÉ ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(KO) 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a novel β-oximester fluorene derivative compound, a photopolymerization initiator comprising the same, and a photoresist composition.
(FR)La présente invention concerne un nouveau composé dérivé de β-ester d'oxime fluorène, un amorceur de photopolymérisation comprenant ce composé, et une composition de résine photosensible.
(KO)본 발명은 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)