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1. (WO2015108338) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE L'EAU PAR OSMOSE DIRECTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/108338    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/000393
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 14.01.2015
CIB :
B01D 61/02 (2006.01), B01D 61/10 (2006.01), B01D 63/08 (2006.01)
Déposants : SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. [KR/KR]; 129 Samsung-ro, Yeongtong-gu Suwon-si Gyeonggi-do 443-742 (KR)
Inventeurs : KWON, Bok Soon; (KR).
CHOI, Hyoung Woo; (KR).
SUH, Chang Won; (KR).
HAN, Sung Soo; (KR)
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 13F, 70 Nonhyeon-ro 85-gil Gangnam-gu Seoul 135-933 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0006309 17.01.2014 KR
Titre (EN) FORWARD OSMOSIS WATER TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE L'EAU PAR OSMOSE DIRECTE
(KO) 정삼투 수처리 장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a forward osmosis water treatment device comprising: a plurality of forward osmosis membranes in which each of the forward osmosis membranes comprises an active layer and a support layer; first spacers located between two active layers facing each other; and second spacers located between two support layers facing each other, wherein a plurality of the first spacers and the second spacers are contained so as to form a stack structure together with the forward osmosis membranes, the plurality of the first spacers form a first channel forming the flow of treated water, and the plurality of the second spacers form a second channel forming the flow of a draw solution.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement de l'eau par osmose directe comprenant : une pluralité de membranes d'osmose directe, chacune des membranes d'osmose directe comprenant une couche active et une couche de support ; des premiers espaceurs placés entre deux couches actives se faisant face ; et des seconds espaceurs placés entre deux couches de support se faisant face, une pluralité des premiers espaceurs et des seconds espaceurs étant inclus de sorte à former une structure d'empilement avec les membranes d'osmose directe, la pluralité des premiers espaceurs formant un premier canal formant la circulation d'eau traitée, et la pluralité des seconds espaceurs formant un second canal formant la circulation d'une solution soutirée.
(KO)각 정삼투 분리막이 활성층과 지지층을 포함하는 복수 개의 정삼투 분리막, 서로 마주하는 두 개의 활성층 사이에 위치하는 제1 스페이서, 및 서로 마주하는 두 개의 지지층 사이에 위치하는 제2 스페이서를 포함하고, 상기 제1 스페이서 및 상기 제2 스페이서는 복수 개로 포함되어 상기 정삼투 분리막과 함께 스택 구조를 형성하고, 상기 복수 개의 제1 스페이서들은 처리수의 흐름을 형성하는 제1 유로를 형성하고, 상기 복수 개의 제2 스페이서들은 유도용액의 흐름을 형성하는 제2 유로를 형성하는 정삼투 수처리 장치에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)