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1. (WO2015108297) SUBSTRAT DE VERRE ANTIREFLET ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/108297    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/000055
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 05.01.2015
CIB :
G02B 1/11 (2015.01)
Déposants : CORNING PRECISION MATERIALS CO., LTD [KR/KR]; 30, Manjeondang-gil, Tangjeong-myeon Asan-si Chungcheongnam-do 336-841 (KR)
Inventeurs : NAM, Jin Su; (KR).
KIM, Seon Ki; (KR).
OH, Jung Keun; (KR).
LEE, Su Yeon; (KR).
AHN, Myeong Jin; (KR).
LEE, Jae Ho; (KR)
Mandataire : KIM, Seon-Min; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0005464 16.01.2014 KR
Titre (EN) ANTI-REFLECTION GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT DE VERRE ANTIREFLET ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 반사 방지 글라스 기판 및 그 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an anti-reflection glass substrate comprising an anti-reflection layer having a predetermined thickness from the surface, the anti-reflection glass substrate being characterized in that the anti-reflection layer has at least two layers of a first layer and a second layer successively provided in the depth direction from the surface, each of the first layer and the second layer has a plurality of pores, and the porosity of the first layer is smaller than the porosity of the second layer. In addition, provided is a method for manufacturing an anti-reflection glass substrate, the method successively comprising a step of etching a glass substrate using a first etching liquid and a step of etching the glass substrate using a second etching liquid, the method being characterized in that the molarity of multivalent metal ions of the first etching liquid is larger than the molarity of multivalent metal ions of the second etching liquid. Provided is a method for manufacturing an anti-reflection glass substrate, the method successively comprising a step of etching a glass substrate using a first etching liquid and a step of etching the glass substrate using a second etching liquid, the method being characterized in that the molarity of hydroxides and fluorides of the first etching liquid is smaller than the molarity of hydroxides and fluorides of the second etching liquid.
(FR)La présente invention concerne un substrat de verre antireflet qui comprend une couche antireflet ayant une épaisseur prédéfinie à partir de la surface, le substrat de verre antireflet étant caractérisé en ce que la couche antireflet comprend au moins deux couches d'une première couche et d'une seconde couche successivement disposées dans la direction de la profondeur à partir de la surface, la première couche et la seconde couche comprenant une pluralité de pores et la porosité de la première couche est inférieure à la porosité de la seconde couche. De plus, la présente invention concerne un procédé de production d'un substrat de verre antireflet. Le procédé comprend successivement une étape de gravure d'un substrat de verre à l'aide d'un premier liquide de gravure et une étape de gravure du substrat de verre à l'aide d'un second liquide de gravure, le procédé étant caractérisé en ce que la molarité des ions métalliques multivalents du premier liquide de gravure est supérieure à la molarité des ions métalliques multivalents du second liquide de gravure. La présente invention concerne un procédé de production d'un substrat de verre antireflet, le procédé comprenant successivement une étape de gravure d'un substrat de verre à l'aide d'un premier liquide de gravure et une étape de gravure du substrat de verre à l'aide d'un second liquide de gravure, le procédé étant caractérisé en ce que la molarité des hydroxydes et des fluorures du premier liquide de gravure est inférieure à la molarité des hydroxydes et des fluorures du second liquide de gravure.
(KO)표면으로부터 일정 두께로 반사방지층을 갖는 반사 방지 글라스 기판으로서, 상기 반사방지층은 상기 표면으로부터 깊이 방향으로 순차적으로 제1층과 제2층의 적어도 두 층을 갖고, 상기 제1층과 상기 제2층은 각각 복수의 기공을 갖되, 상기 제1층의 기공율은 상기 제2층의 기공율보다 작은 것을 특징으로 하는 반사 방지 글라스 기판을 제공한다. 또한, 제1에칭액으로 글라스 기판을 에칭하는 단계와, 제2에칭액으로 상기 글라스 기판을 에칭하는 단계를 순차적으로 포함하고, 상기 제1에칭액의 다가 금속이온의 몰농도는 상기 제2에칭액의 다가 금속이온의 몰농도보다 큰 것을 특징으로 하는 반사 방지 글라스 기판 제조방법을 제공한다. 제1에칭액으로 글라스 기판을 에칭하는 단계와, 제2에칭액으로 상기 글라스 기판을 에칭하는 단계를 순차적으로 포함하고, 상기 제1에칭액의 수산화물 및 불화물의 몰농도는 상기 제2에칭액의 수산화물 및 불화물의 몰농도보다 작은 것을 특징으로 하는 반사 방지 글라스 기판 제조방법을 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)