WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015108124) DISPOSITIF MEMS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/108124    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050990
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 15.01.2015
CIB :
H03H 9/02 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), H03H 9/17 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : KAIDA, Hiroaki; (JP).
KAMEDA, Eitaro; (JP).
TAKEYAMA, Keisuke; (JP).
NAKAMURA, Daisuke; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-007088 17.01.2014 JP
Titre (EN) MEMS DEVICE
(FR) DISPOSITIF MEMS
(JA) MEMS素子
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a microelectro mechanical systems (MEMS) device capable of providing a high-precision oscillator by reducing variations in a resistance value due to contraction oscillation in a direction of extension of a retainer. A MEMS device (10) is configured from a frame (11), a rectangular plate (12) for receiving an input of a drive signal, and retainers (13) for fixing the rectangular plate (12) to the frame (11). Both of the frame (11) and the rectangular plate (12) have a rectangular shape having short sides and long sides. The retainers (13) are provided extending from the central portion of the opposing short sides of the rectangular plate (12) to the frame (11) side to fix the rectangular plate (12) to the frame (11). The ratio (Lp/Wp) of the long side (Lp) to the short side (Wp) of the rectangular plate (12) is 1.3-1.6, preferably, 1.46. A resistive film (19) is formed in a region along a straight line joining the retainers (13) for fixing the rectangular plate (12) to the frame (11), the region being equal to or less than half the maximum displacement in the oscillation distribution.
(FR)L'invention concerne un dispositif à systèmes microélectromécaniques (MEMS) capable de fournir un oscillateur de haute précision en réduisant des variations d'une valeur de résistance causées par une oscillation de contraction dans une direction d'extension d'un dispositif de retenue. Un dispositif MEMS (10) est constitué d'un châssis (11), d'une plaque rectangulaire (12) permettant de recevoir une entrée d'un signal de pilotage, et de dispositifs de retenue (13) permettant de fixer la plaque rectangulaire (12) au châssis (11). Le châssis (11) et la plaque rectangulaire (12) ont tous deux une forme rectangulaire ayant des largeurs et des longueurs. Les dispositifs de retenue (13) sont positionnés de façon à s'étendre entre la partie centrale des largeurs opposées de la plaque rectangulaire (12) et le côté du châssis (11) pour fixer la plaque rectangulaire (12) au châssis (11). Le rapport (Lp/Wp) entre la longueur (Lp) et la largeur (Wp) de la plaque rectangulaire (12) est de 1,3-1,6, de préférence 1,46. Un film résistif (19) est formé dans une région le long d'une ligne droite joignant les dispositifs de retenue (13) permettant de fixer la plaque rectangulaire (12) au châssis (11), la région étant inférieure ou égale à la moitié du déplacement maximal dans la distribution des oscillations.
(JA) 保持部の延伸する方向における収縮振動による抵抗値の変動を抑制し、高精度な発振器を実現可能なMEMS素子を提供する。MEMS素子10は、枠11と、駆動信号の入力を受ける矩形板12と、この矩形板12を枠11に固定する保持部13とから構成される。枠11と矩形板12とは、いずれも短辺と長辺とを有する矩形状で構成される。保持部13は、矩形板12の対向する短辺の中央部分から枠11側に延伸して設けられ、矩形板12を枠11に対して固定している。矩形板12の長辺(Lp)と短辺(Wp)の比(Lp/Wp)が1.3~1.6、好ましくは1.46となる。抵抗膜19は、矩形板12を枠11に固定する保持部13を結んだ直線上に沿った領域であり、振動分布から最大変位の半分以下の領域に形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)