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1. (WO2015107976) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/107976    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050404
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 08.01.2015
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290 (JP)
Inventeurs : SHIBAZAKI, Yuichi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-005684 16.01.2014 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure apparatus (100) transfers a pattern to a wafer (W) by irradiating a reticle (R) with irradiation light (IL), said pattern being formed on a pattern surface of the reticle (R). The exposure apparatus is provided with: a reticle stage (RST) that holds and moves the reticle (R); and a sensor (30) that radiates measuring light to the pattern surface of the reticle (R) held by means of the reticle stage (RST), and detects speckles from the pattern surface.
(FR)La présente invention concerne un appareil d'exposition (100) qui transfère un motif sur une tranche (W) par exposition d'un réticule (R) à la lumière de rayonnement (IL), ledit motif étant formé sur une surface de motif du réticule (R). L'appareil d'exposition comprend : une platine (RST) de réticule qui maintient et déplace le réticule (R) ; et un capteur (30) qui expose à la lumière de mesure la surface de motif du réticule (R) maintenu au moyen de la platine (RST) de réticule et détecte des chatoiements provenant de la surface de motif.
(JA) 照明光(IL)をレチクル(R)に照射してレチクル(R)のパターン面に形成されたパターンをウエハ(W)に転写する露光装置(100)は、レチクル(R)を保持して移動するレチクルステージ(RST)と、レチクルステージ(RST)に保持されたレチクル(R)の前記パターン面に対して計測光を照射し、パターン面からのスペックルを検出するセンサ(30)と、を備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)