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1. (WO2015107950) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/107950    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050228
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : SAWASHIMA, Jun; (JP)
Mandataire : MATSUSAKA, Masahiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-005634 16.01.2014 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置および基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)The substrate processing device has an upper nozzle (181) for discharging a processing solution towards a substrate. The upper nozzle is connected to a pure water supply unit (184) via a pure water inlet line (72), which is a pure water supply line, a connection part (71), and a processing solution common line (74), the supply line being provided with a pure water inlet valve (722), which is a pure water valve. A drug solution inlet line (73) connects the chemical solution supply unit (183) to a chemical solution inlet position (713), which is between the upper nozzle and the pure water valve in the supply line. An end of a chemical solution recovery line (75) is connected to a chemical solution recovery position (715), which is between the chemical solution inlet position and the pure water valve in the supply line. After completion of the chemical solution discharge from the upper nozzle, a chemical solution recovery unit (82), which has an ejector (822) provided on the chemical solution recovery line, recovers the chemical solution present in the supply line between the upper nozzle and the chemical solution recovery position. In this way, the chemical solution can be recovered and reused efficiently.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement de substrat comportant une buse (181) supérieure permettant de déverser une solution de traitement vers un substrat. La buse supérieure est raccordée à une unité d'alimentation (184) en eau douce par le biais d'une conduite d'admission (72) d'eau douce, qui consiste en une conduite d'alimentation en eau douce, à une partie de raccordement (71), et à une conduite commune (74) de solution de traitement, la conduite d'alimentation étant pourvue d'un robinet (722) d'admission d'eau douce, qui consiste en un robinet d'eau douce. Une conduite d'admission (73) de solution médicamenteuse raccorde l'unité d'alimentation (183) en solution chimique à une position (713) d'admission de solution chimique, qui se trouve entre la buse supérieure et le robinet d'eau douce dans la conduite d'alimentation. Une extrémité d'une conduite de récupération (75) de solution chimique est raccordée à une position (715) de récupération de solution chimique, qui se trouve entre la position d'admission de solution chimique et le robinet d'eau douce dans la conduite d'alimentation. Après l'achèvement du déversement de solution chimique à partir de la buse supérieure, une unité de récupération (82) de solution chimique, qui comporte un éjecteur (822) disposé sur la conduite de récupération de solution chimique, récupère la solution chimique présente dans la conduite d'alimentation entre la buse supérieure et la position de récupération de solution chimique. De cette manière, la solution chimique peut être récupérée et réutilisée de façon efficace.
(JA) 基板処理装置は、基板に向けて処理液を吐出する上部ノズル(181)を有する。上部ノズルは、純水の供給ラインである純水導入ライン(72)、接続部(71)および処理液共通ライン(74)により純水供給部(184)と接続され、供給ラインには純水用バルブである純水導入バルブ(722)が設けられる。薬液導入ライン(73)により、供給ラインにおける上部ノズルと純水用バルブとの間の薬液導入位置(713)と薬液供給部(183)とが接続される。供給ラインにおける薬液導入位置と純水用バルブとの間の薬液回収位置(715)には、薬液回収ライン(75)の一端が接続される。薬液回収ラインに設けられたエジェクタ(822)を有する薬液回収部(82)が、上部ノズルからの薬液の吐出完了後、供給ラインにおいて上部ノズルと薬液回収位置との間に存在する薬液を回収する。これにより、薬液を効率よく回収して再利用することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)