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1. (WO2015107051) SYNTHÈSE DIRECTE PAR LASER ET DÉPÔT DE MATÉRIAUX NANOCOMPOSITES OU DE NANOSTRUCTURES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/107051    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/050506
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 13.01.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.07.2015    
CIB :
C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/28 (2006.01)
Déposants : NANOTECHPLASMA SARL [CH/CH]; c/o Universal Investment Advisory SA Rue du Général-Dufour 20 CH-1204 Geneva (CH)
Inventeurs : SERBEZOV, Valery; (BG)
Mandataire : KATZAROV SA; 19 rue des Epinettes CH-1227 Geneva (CH)
Données relatives à la priorité :
14151331.7 15.01.2014 EP
Titre (EN) LASER DIRECT SYNTHESIS AND DEPOSIT OF NANOCOMPOSITE MATERIALS OR NANOSTRUCTURES
(FR) SYNTHÈSE DIRECTE PAR LASER ET DÉPÔT DE MATÉRIAUX NANOCOMPOSITES OU DE NANOSTRUCTURES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for laser assisted synthesis/formation of functional nanocomposite materials or nanostructures and contactless direct transfer/deposit and/or writing thereof in one step and one technological cycle on to different types of receiving substrates.
(FR)La présente invention concerne un procédé de synthèse/formation, assistée par laser, de matériaux nanocomposites ou de nanostructures fonctionnels et de transfert/dépôt direct sans contact et/ou d'écriture de ceux-ci en une étape et un cycle technologique sur différents types de substrats récepteurs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)