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1. (WO2015106983) DISPOSITIF ÉMETTEUR DE RAYONS X DOTÉ D'UN ÉLÉMENT D'ATTÉNUATION POUR APPAREIL D'IMAGERIE PAR RAYONS X
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/106983    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/050073
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 06.01.2015
CIB :
A61B 6/00 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Inventeurs : BEHLING, Rolf Karl Otto; (NL)
Mandataire : DAMEN, Daniel Martijn; (NL)
Données relatives à la priorité :
14151144.4 14.01.2014 EP
Titre (EN) X-RAY EMITTING DEVICE WITH AN ATTENUATING ELEMENT FOR AN X-RAY IMAGING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF ÉMETTEUR DE RAYONS X DOTÉ D'UN ÉLÉMENT D'ATTÉNUATION POUR APPAREIL D'IMAGERIE PAR RAYONS X
Abrégé : front page image
(EN)An X-ray emitting device (200) with an attenuating element (1) for an X-ray imaging device (100) is proposed. The attenuating element comprises a perforated sheet (3) of strongly X-ray absorbing material such as e.g. tungsten or molybdenum with a sheet thickness of e.g. less than 1 mm. The sheet (3) comprises multiple pinhole openings (5). Therein, a density of pinhole openings is higher at a center region of the sheet than at border regions of the sheet. Accordingly, a transparency to X-rays is higher at the center region than at the border regions. The pinhole openings (5) have geometries such that most parts of contours of the pinhole openings are non-parallel to edges of a focal spot (15) of an X-ray source (101) comprised in the X-ray emitting device. For example, the pinhole openings may have a circular, oval or any other cross-sectional geometry with non- linear edges. In an X-ray imaging device, such attenuating element may avoid beam hardening, needs less space than a conventional bow tie filter and is relatively insensitive to focal spot shifts.
(FR)La présente invention concerne un dispositif (200) émetteur de rayons X doté d'un élément d'atténuation (1) destiné à un dispositif (100) d'imagerie par rayons X. L'élément d'atténuation comprend une feuille perforée (3) d'un matériau à forte absorption de rayons X, tel que du tungstène ou du molybdène par ex., avec une épaisseur de feuille qui est, par exemple, inférieure à 1 mm. La feuille (3) comprend de multiples ouvertures (5) de trou d'épingle. Dans la description, une densité des ouvertures de trou d'épingle est supérieure au niveau d'une région centrale de la feuille que dans les régions de bordure de la feuille. Par conséquent, une transparence aux rayons X est supérieure au niveau de la région centrale que dans les régions de bordure. Les ouvertures (5) de trou d'épingle présentent des géométries telles que la plupart des contours des ouvertures de trou d'épingle sont non parallèles aux bords d'un point focal (15) d'une source (101) de rayons X comprise dans le dispositif émetteur de rayons X. Ainsi, les ouvertures de trou d'épingle peuvent avoir une géométrie transversale circulaire, ovale ou autre avec des bords non linéaires. Dans un dispositif d'imagerie par rayons X, un tel élément d'atténuation peut éviter le durcissement du faisceau, il nécessite moins d'espace qu'un filtre en arc traditionnel et il est relativement insensible aux décalages des points focaux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)