WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015106545) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN MOTIF DE COUCHE DE FILM MINCE, SUBSTRAT D'AFFICHAGE, PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/106545    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/080903
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 27.06.2014
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
BEIJING BOE DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.118 Jinghaiyilu, BDA Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : XU, Liyan; (CN).
TIAN, Ming; (CN).
WANG, Junwei; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410015561.9 14.01.2014 CN
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM LAYER PATTERN, DISPLAY SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE, AND DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN MOTIF DE COUCHE DE FILM MINCE, SUBSTRAT D'AFFICHAGE, PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 薄膜层图案的制作方法、显示基板及其制作方法、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a thin film layer pattern, a display substrate, a method for manufacturing the display substrate, and a display device. The method for manufacturing the thin film layer pattern comprises: forming on a substrate (10) a first thin film layer (11) to be patterned; forming a first covering layer (20) on the surface of the first thin film layer (11); forming a first covering layer pattern (201) by means of beam melting; and then removing the first thin film layer (11) not covered by the first covering layer pattern (201), so as to form a first thin film layer pattern (101). The method can, by means of the beam melting technique, enhance precision and resolution of the display substrate, improve product quality and reduce production cost.
(FR)L'invention concerne un procédé pour fabriquer un motif de couche de film mince, un substrat d'affichage, un procédé pour fabriquer le substrat d'affichage et un dispositif d'affichage. Le procédé pour fabriquer le motif de couche de film mince consiste : à former sur un substrat (10) une première couche de film mince (11) sur laquelle un motif doit être formé ; à former une première couche de couverture (20) sur la surface de la première couche de film mince (11) ; à former un motif de première couche de couverture (201) au moyen d'une fusion de faisceaux ; puis à enlever la première couche de film mince (11) non recouverte par le motif de première couche de couverture (201), de façon à former un motif de première couche de film mince (101). Le procédé peut, au moyen de la technique de fusion de faisceaux, améliorer la précision et la résolution du substrat d'affichage, améliorer la qualité du produit et réduire le coût de production.
(ZH)一种薄膜层图案的制作方法、显示基板及其制作方法、显示装置。该薄膜层图案的制作方法包括:在基板(10)上形成待图案化的第一薄膜层(11),并在该第一薄膜层(11)的表面形成第一覆盖层(20),通过光束熔损的方法形成第一覆盖层图案(201),然后将上述第一覆盖层图案(201)未覆盖的第一薄膜层(11)去除掉,从而形成第一薄膜层图案(101)。该方法通过光束熔损工艺能够提高显示基板的精度和分辨率,提升产品质量,降低生产成本。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)