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1. (WO2015106436) PROCEDE DE REPARATION D'OXYDE DE GRAPHENE REDUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/106436    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/070801
Date de publication : 23.07.2015 Date de dépôt international : 17.01.2014
CIB :
C01B 31/04 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CANTONNET ENERGY SERVICES CO., LTD [CN/CN]; Suite A3.C-501 China Merchants Guangming Science Park, 3009 Guanguang Rd., Guangming District Shenzhen, Guangdong 518107 (CN)
Inventeurs : ZHANG, Mingdong; (CN).
ZHANG, Linde; (CN)
Mandataire : ADVANCE CHINA I.P. LAW OFFICE; Room 3901, No.85 Huacheng Avenue, Tianhe District Guangzhou, Guangdong 510623 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR REPAIRING REDUCED GRAPHENE OXIDE
(FR) PROCEDE DE REPARATION D'OXYDE DE GRAPHENE REDUIT
(ZH) 一种还原氧化石墨烯的修复方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for repairing a reduced graphene oxide. The method comprises the following steps: dispersing the reduced graphene oxide into a solvent to obtain a graphene dispersion liquid, adding a first Lewis acid and a compound containing a methyl or methylene group to obtain a first mixture, reacting the first mixture in a microwave environment and refluxing to obtain a first crude product; adding the first crude product into a second Lewis acid, adding an aromatic hydrocarbon repairing agent to obtain a second mixture, reacting the second mixture to obtain a melt solid, separating and purifying same to obtain a second crude product; mixing the second crude product, a metal powder catalyst and a third Lewis acid to obtain a third mixture, reacting the third mixture in the atmosphere of a protection gas containing a carbon source at a temperature of 450-500°C for 1-2 hours, and annealing in a vacuum environment.
(FR)L'invention concerne un procédé de réparation d'un oxyde de graphène réduit. Le procédé comporte les étapes suivantes : disperser l'oxyde de graphène réduit dans un solvant pour obtenir un liquide de dispersion de graphène, ajouter un premier acide de Lewis et un composé contenant un groupe méthyle ou méthylène afin d'obtenir un premier mélange, faire réagir le premier mélange dans un environnement hyperfréquence, et le soumettre à un reflux pour obtenir un premier produit brut ; faire réagir par addition le premier produit brut sur un deuxième acide de Lewis, ajouter un agent de réparation d'hydrocarbure aromatique pour obtenir un deuxième mélange, faire réagir le deuxième mélange afin d'obtenir un solide fondu, séparer et purifier celui-ci afin d'obtenir un deuxième produit brut ; mélanger le deuxième produit brut, un catalyseur de poudre métallique et un troisième acide de Lewis pour obtenir un troisième mélange, faire réagir le troisième mélange dans l'atmosphère d'un gaz de protection contenant une source de carbone, à une température de 450-500°C pendant 1-2 heures, et recuire dans un environnement sous vide.
(ZH)一种还原氧化石墨烯的修复方法,包括将还原氧化石墨烯分散于溶剂中得到石墨烯分散液,加入第一路易斯酸及含甲基或亚甲基的化合物得到第一混合物,于微波环境下反应,回流,得第一粗产物;将第一粗产物加入第二路易斯酸中,加入芳烃修补剂,得第二混合物,第二混合物反应后得熔融物固体,分离纯化得第二粗产物;将第二粗产物、金属粉末催化剂和第三路易斯酸混合得第三混合物,在含碳源的保护气体气氛中,将第三混合物于450℃~500℃反应1小时~2小时,真空环境下退火。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)