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1. (WO2015105615) UTILISATION DE MOTIF À COMPOSITION À BASE DE PRÉCURSEUR DE DIOXYDE DE TITANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/105615    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/069709
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 11.12.2014
CIB :
H05K 3/18 (2006.01), C23C 18/18 (2006.01), C23C 18/16 (2006.01), H05K 3/38 (2006.01), C23C 18/30 (2006.01), C23C 18/40 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street Rochester, NY 14650-2201 (US)
Inventeurs : TRIA, Maria, Celeste; (US)
Données relatives à la priorité :
14/153,332 13.01.2014 US
Titre (EN) USE OF TITANIA PRECURSOR COMPOSITION PATTERN
(FR) UTILISATION DE MOTIF À COMPOSITION À BASE DE PRÉCURSEUR DE DIOXYDE DE TITANE
Abrégé : front page image
(EN)A conductive metal pattern can be formed using a titania sol-gel obtained from a titania precursor composition having (a) a titanium alkoxide or titanium aryloxide, (b) a R(O)mCOCH2CO(O)nR' compound wherein R and R' are independently alkyl and m and n are independently 0 or 1, (c) water, (d) either an acid having a pKa less than 1 or a source of a halogen, and (e) a water-miscible organic solvent, on a substrate, wherein the molar amounts of (a) through (d) are sufficient to form a pattern of a titania sol-gel upon drying on the substrate. This pattern is contacted with electroless seed metal ions to form a pattern of electroless seed metal ions deposited within the pattern of titania sol-gel on the substrate, which electroless seed metal ions are exposed to electromagnetic radiation to reduce the electroless seed metal. The article is then subjected to electroless metal plating.
(FR)Selon l'invention, un motif de métal conducteur peut être formé en utilisant un sol-gel de dioxyde de titane obtenu à partir d'une composition à base de précurseur de dioxyde de titane contenant (a) un alkoxyde de titane ou un aryloxyde de titane, (b) un composé R(O)mCOCH2CO(O)nR' où R et R' sont des alkyles indépendants et m et n sont 0 ou 1 indépendamment, (c) de l'eau, (d) soit un acide avec un pKa inférieur à 1 soit une source d'halogène, et (e) un solvant organique miscible dans l'eau, sur un substrat, les quantités molaires de (a) à (d) étant suffisantes pour former un motif de sol-gel de dioxyde de titane lors du séchage sur le substrat. Ce motif est mis en contact avec des ions métalliques germes autocatalytiques pour former un motif d'ions métalliques germes autocatalytiques déposé dans le motif de sol-gel de dioxyde de titane sur le substrat, lesdits ions métalliques germes autocatalytiques étant exposés à un rayonnement électromagnétique pour réduire le métal germe autocatalytique. L'objet est ensuite soumis à un dépôt autocatalytique de métal.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)