WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015105350) NOUVEAU DÉRIVÉ DE CYCLODISILAZANE, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET FILM MINCE CONTENANT DU SILICIUM L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/105350    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/000189
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 08.01.2015
CIB :
C07F 7/10 (2006.01)
Déposants : DNF CO.,LTD. [KR/KR]; 142, Daehwa-ro 132beon-gil Daedeok-gu Daejeon 306-802 (KR)
Inventeurs : JANG, Se Jin; (KR).
YANG, Byeong-il; (KR).
KIM, Sung Gi; (KR).
KIM, Jong Hyun; (KR).
KIM, Do Yeon; (KR).
LEE, Sang-Do; (KR).
SEOK, Jang Hyeon; (KR).
LEE, Sang Ick; (KR).
KIM, Myong Woon; (KR)
Mandataire : PLUS INTERNATIONAL IP LAW FIRM; 10F, 809, Hanbat-daero Seo-gu Daejeon 35209 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0002202 08.01.2014 KR
Titre (EN) NOVEL CYCLODISILAZANE DERIVATIVE, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND SILICON-CONTAINING THIN FILM USING THE SAME
(FR) NOUVEAU DÉRIVÉ DE CYCLODISILAZANE, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET FILM MINCE CONTENANT DU SILICIUM L'UTILISANT
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a novel cyclodisilazane derivative, a method for preparing the same, and a silicon-containing thin film using the same, wherein the cyclodisilazane derivative having thermal stability, high volatility, and high reactivity and being present in a liquid state at room temperature and under a pressure where handling is easy, may form a high purity silicon-containing thin film having excellent physical and electrical properties by various deposition methods.
(FR)L'invention concerne un nouveau dérivé de cyclodisilazane, un procédé pour sa préparation et un film mince contenant du silicium l'utilisant, le dérivé de cyclodisilazane présentant une stabilité thermique, une volatilité élevée et une réactivité élevée et se trouvant à l'état liquide à température ambiante et sous une pression à laquelle la manipulation est aisée, et pouvant former un film mince contenant du silicium de haute pureté qui présente d'excellentes propriétés physiques et électriques par différents procédés de dépôt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)