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1. (WO2015105127) FILM MULTICOUCHE ET PROCÉDÉ POUR LE PRODUIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/105127    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050270
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
B32B 27/28 (2006.01), B29C 47/06 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), B29K 25/00 (2006.01), B29L 9/00 (2006.01)
Déposants : ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP)
Inventeurs : KOHARA Teiji; (JP).
ISHIGURO Atsushi; (JP).
SAITOU Daisuke; (JP)
Mandataire : OHISHI Haruhito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-002553 09.01.2014 JP
Titre (EN) MULTILAYER FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) FILM MULTICOUCHE ET PROCÉDÉ POUR LE PRODUIRE
(JA) 多層フィルム及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is a multilayer film obtained by laminating, on one or both surfaces of a film [F], a layer [F']. The film [F] is made from a resin composition [E] obtained by blending a UV absorber into a block copolymer hydride [D] obtained by hydrogenating 90% or more of the total number of unsaturated bonds of a specific block copolymer [C] comprising at least two polymer blocks [A], having as their main ingredients repeating units derived from an aromatic vinyl compound, and one or more polymer blocks [B], having as its main ingredient repeating units derived from a chain conjugated diene compound. The layer [F'] is made from a resin composition [E'] obtained by blending 0 to less than 1.0 parts by weight of a UV absorber with respect to 100 parts by weight of: a specific block copolymer hydride [D'] comprising two or more polymer blocks [A'] having as their main ingredient repeating units derived from an aromatic vinyl compound, and at least one polymer block [B'] having as its main ingredient repeating units derived from a chain conjugated diene compound; and/or a modified block copolymer hydride [D''] obtained by introducing an alkoxy silyl group into the specific block copolymer hydride [D']. Also provided is a method for producing same.
(FR) L'invention concerne un film multicouche obtenu par contrecollage, sur au moins une surface d'un film [F], d'une couche [F']. Le film [F] est fabriqué à partir d'une composition de résine [E] obtenue par mélange d'un absorbeur d'UV dans un hydrure de copolymère séquencé [D] obtenu par l'hydrogénation de 90 % ou plus du nombre total de liaisons insaturées d'un copolymère séquencé spécifique [C] comprenant au moins deux blocs polymères [A], ayant comme principaux constituants des motifs répétitifs dérivés d'un composé de vinyle aromatique, et un ou plusieurs blocs polymères [B], ayant en tant que constituant principal des motifs répétitifs dérivés d'un composé de diène conjugué en chaîne. La couche [F'] est fabriquée à partir d'une composition de résine [E'] obtenue par mélange de 0 à moins de 1,0 partie en poids d'un absorbeur d'UV rapportées à 100 parties en poids de: un hydrure de copolymère séquencé spécifique [D'] comprenant deux ou plusieurs blocs polymères [A'] ayant en tant que constituant principal des motifs répétitifs dérivés d'un composé de vinyle aromatique, et au moins un bloc polymère [B'] ayant en tant que constituant principal des motifs répétitifs dérivés d'un composé de diène conjugué en chaîne; et/ou un hydrure de copolymère séquencé modifié [D''] obtenu par l'introduction d'un groupe alcoxy silyle dans l'hydrure de copolymère séquencé spécifique [D']. L'invention concerne également un procédé pour produire ce film.
(JA) 本発明は、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B]とからなる特定のブロック共重合体[C]の、全不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物[D]に対して紫外線吸収剤が配合されてなる樹脂組成物[E]からなるフィルム[F]の1面もしくは両面に、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A']と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B']とからなる特定のブロック共重合体水素化物[D']及び/又はブロック共重合体水素化物[D']にアルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[D"]100重量部に対して紫外線吸収剤0重量部以上1.0重量部未満が配合された樹脂組成物[E']からなる層[F']が積層されてなる多層フィルム、及びその製造方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)