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1. (WO2015104086) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSANT MICROMÉCANIQUE ET COMPOSANT MICROMÉCANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/104086    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/075131
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 20.11.2014
CIB :
B81C 1/00 (2006.01)
Déposants : ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE)
Inventeurs : LUTZ, Theresa; (DE).
HEUCK, Friedjof; (DE)
Données relatives à la priorité :
102014200380.6 13.01.2014 DE
Titre (DE) HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EIN MIKROMECHANISCHES BAUTEIL UND MIKROMECHANISCHES BAUTEIL
(EN) PRODUCTION METHOD FOR A MICROMECHANICAL PART, AND MICROMECHANICAL PART
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSANT MICROMÉCANIQUE ET COMPOSANT MICROMÉCANIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil, das wenigstens die folgenden Schritte umfasst: Herausstrukturieren einer Grundstruktur (10) mindestens einer Komponente des mikromechanischen Bauteils aus zumindest einer kristallinen Schicht (12) eines Substrats mittels eines kristallorientierungs-unabhängigen Ätzschritts, und Herausarbeiten mindestens einer Fläche (18) einer definierten Kristallebene (20) aus der Grundstruktur (10) der mindestens einen Komponente mittels eines kristallorientierungs-abhängigen Ätzschritts, wobei der kristallorientierungs- abhängige Ätzschritt ausgeführt wird, für welchen die jeweilige definierte Kristallebene (20), nach welcher die mindestens eine an der Grundstruktur (10) herausgearbeitete Fläche (18) ausgerichtet wird, von allen Kristallebenen die niedrigste Ätzrate aufweist. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein mikromechanisches Bauteil.
(EN)The invention relates to a production method for a micromechanical part, comprising at least the following steps: forming a main structure (10) of at least one component of the micromechanical part from at least one crystalline layer (12) of a substrate by means of a crystal orientation-independent etching step, and etching at least one area (18) in a defined crystal plane (20) away on the main structure (10) of the at least one component by means of a crystal orientation-dependent etching step. For said crystal orientation-dependent etching step, the defined crystal plane (20) in respect of which the at least one area (18) etched away on the main structure (10) is oriented is the crystal plane that features the lowest etching rate of all crystal planes. The invention further relates to a micromechanical part.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composant micromécanique, comprenant au moins les étapes suivantes : réalisation d'une structure de base (10) en relief sur au moins une partie constitutive du composant micromécanique à partir d'au moins une couche cristalline (12) d'un substrat au moyen d'une opération de gravure indépendante de l'orientation cristalline ; et dégagement d'au moins une face (18) d'un plan cristallin (20) défini à partir de la structure de base (10) de ladite au moins une partie constitutive au moyen d'une opération de gravure indépendante de l'orientation cristalline. Cette opération de gravure indépendante de l'orientation cristalline est exécutée de telle sorte que le plan cristallin (20) respectivement défini, selon lequel la ou les faces (18) dégagées sur la structure de base (10) sont alignées, est celui parmi tous les plans cristallins qui présente le degré de gravure le plus faible. L'invention concerne en outre un composant micromécanique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)