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1. (WO2015104049) PROCÉDÉ D'ANALYSE QUANTITATIVE POUR UNE ANALYSE DE COMPOSITION ÉLÉMENTAIRE DE MATIÈRES AU MOYEN D'UNE TECHNIQUE DE SPECTROSCOPIE LIBS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/104049    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/050224
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 08.01.2014
CIB :
G01N 21/71 (2006.01)
Déposants : UNIVERSIDAD PUBLICA DE NAVARRA [ES/ES]; Campus de Arrosadia E-31006 Pamplona (Navarra) (ES)
Inventeurs : AGUILERA ANDOAGA, José, Antonio; (ES).
ARAGÓN GARBIZU, Carlos; (ES)
Mandataire : CARPINTERO LOPEZ, Francisco; Herrero & Asociados, S.L. C/ Alcala, 35 E-28014 Madrid (ES)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) QUANTITATIVE ANALYSIS METHOD FOR ANALYZING THE ELEMENTAL COMPOSITION OF MATERIALS BY MEANS OF LIBS TECHNIQUE
(FR) PROCÉDÉ D'ANALYSE QUANTITATIVE POUR UNE ANALYSE DE COMPOSITION ÉLÉMENTAIRE DE MATIÈRES AU MOYEN D'UNE TECHNIQUE DE SPECTROSCOPIE LIBS
Abrégé : front page image
(EN)The quantitative analysis method for analyzing the composition of materials of the invention is based on a functional relationship (curve Cσ) between line intensity and the concentration of the element in the material. The method comprises: obtaining characteristic parameters, selecting the spectral lines of neutral atoms and ions of the elements of interest, obtaining their atomic data; calculating, for the selected lines, a line crosssection; measuring line intensities; determining the concentrations of the elements of interest by means of fitting two graphs Cσ, one for neutral atoms and another for ions with a unit charge, the fitting being performed by means of an iterative algorithm which compares the experimental graphs with the curves Cσ calculated with a plasma model; calculating, for the data of the graphs Cσ, the product of line optical depth by Lorentzian width; evaluating, for the data of the graphs Cσ, a condition on the validity limit of the model, the datum for which the mentioned product is greater being eliminated if the condition is not complied with; repeating the three preceding steps until all data comply with the mentioned condition. The invention has the advantage of not requiring prior calibrations.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'analyse quantitative permettant d'analyser la composition de matières reposant sur une relation fonctionnelle (courbe Cσ) entre une intensité de raies et la concentration de l'élément dans la matière. Le procédé consiste à : obtenir des paramètres caractéristiques, sélectionner les raies spectrales d'atomes neutres et d'ions des éléments d'intérêt, obtenir leurs données atomiques; calculer, pour les raies sélectionnées, une section transversale de raies; mesurer des intensités de raies; déterminer les concentrations des éléments d'intérêt au moyen de l'ajustement de deux graphes Cσ, un pour les atomes neutres et un autre pour les ions avec une charge unitaire, l'ajustement étant réalisé au moyen d'un algorithme itératif qui compare les graphes expérimentaux avec les courbes Cσ calculées avec un modèle de plasma; calculer, pour les données des graphes Cσ, le produit de la profondeur optique de raie par la largeur de Lorentz; évaluer, pour les données des graphes Cσ, une condition sur la limite de validité du modèle, la donnée pour laquelle le produit mentionné est plus grand étant éliminée si la condition n'est pas respectée; répéter les trois étapes précédentes jusqu'à ce que l'ensemble des données satisfassent à la condition mentionnée. L'invention présente l'avantage de ne pas nécessiter d'étalonnages préalables.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)