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1. (WO2015103370) MODULATION ASYMÉTRIQUE DE LA FORME DE GABARITS POUR IMPRESSION SUR CHAMP PARTIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/103370    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/072955
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 31.12.2014
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : CANON NANOTECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 1807 W. Braker Ln. C-100 Austin, Texas 78708 (US)
Inventeurs : GANAPATHISUBRAMANIAN, Mahadevan; (US).
KINCAID, Matthew M.; (US).
CHOI, Byung-Jin; (US).
SREENIVASAN, Sidlgata V.; (US)
Mandataire : KING, Cameron A.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/922,431 31.12.2013 US
Titre (EN) ASYMMETRIC TEMPLATE SHAPE MODULATION FOR PARTIAL FIELD IMPRINTING
(FR) MODULATION ASYMÉTRIQUE DE LA FORME DE GABARITS POUR IMPRESSION SUR CHAMP PARTIEL
Abrégé : front page image
(EN)Systems and methods for partial field imprinting are provided such that imprint templates are asymmetrically modulated to allow initial contact with a partial field on a substrate at a location spaced apart from the template center.
(FR)On décrit des systèmes et des procédés d'impression sur un champ partiel, qui assurent une modulation asymétrique de gabarits d'impression permettant un contact initial avec un champ partiel situé sur un substrat, au niveau d'un emplacement espacé du centre du gabarit.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)