WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015103358) DEPOT DE FILM PAR DEPOT SPATIAL DE COUCHE ATOMIQUE OU PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR PULSEE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/103358    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/072929
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 31.12.2014
CIB :
H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : LEI, Yu; (US).
GANDIKOTA, Srinivas; (US).
GANGULI, Seshadri; (US).
ZHENG, Bo; (US).
JAKKARAJU, Rajkumar; (US).
SALINAS, Martin Jeff; (US).
SCHMIEGE, Benjamin; (US)
Mandataire : BLANKMAN, Jeffrey I.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/923,731 05.01.2014 US
14/587,131 31.12.2014 US
Titre (EN) FILM DEPOSITION USING SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION OR PULSED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
(FR) DEPOT DE FILM PAR DEPOT SPATIAL DE COUCHE ATOMIQUE OU PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR PULSEE
Abrégé : front page image
(EN)Provided are atomic layer deposition methods to deposit a film using a circular batch processing chamber with a plurality of sections separated by gas curtains so that each section independently has a process condition.
(FR)La présente invention concerne des procédés pour le dépôt d'un film au moyen d'une chambre de traitement discontinu circulaire avec une pluralité de sections séparées par des rideaux anti-gaz de sorte que chaque section présente indépendamment une condition de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)