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1. (WO2015102781) ANNEAU DE SUPPORT À BORD MASQUÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/102781    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/067367
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 25.11.2014
CIB :
H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : BEHDJAT, Mehran; (US).
TAM, Norman L.; (US).
HUNTER, Aaron Muir; (US).
RANISH, Joseph M.; (US).
NAKANISHI, Koji; (JP).
NAKAGAWA, Toshiyuki; (JP)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US)
Données relatives à la priorité :
61/922,451 31.12.2013 US
14/218,597 18.03.2014 US
Titre (EN) SUPPORT RING WITH MASKED EDGE
(FR) ANNEAU DE SUPPORT À BORD MASQUÉ
Abrégé : front page image
(EN)A support ring for semiconductor processing is provided. The support ring includes a ring shaped body defined by an inner edge and an outer edge. The inner edge and outer edge are concentric about a central axis. The ring shaped body further includes a first side, a second side, and a raised annular shoulder extending from the first side of the ring shaped body at the inner edge. The support ring also includes a coating on the first side. The coating has an inner region of reduced thickness region abutting the raised annular shoulder.
(FR)L’invention porte sur un anneau de support pour un traitement de semi-conducteur. L’anneau de support comprend un corps en forme d’anneau défini par un bord interne et un bord externe. Le bord interne et le bord externe sont concentriques autour d’un axe central. Le corps en forme d’anneau comprend en outre un premier côté, un second côté et un épaulement annulaire élevé s’étendant depuis le premier côté du corps en forme d’anneau au niveau du bord interne. L’anneau de support comprend également un enrobage sur le premier côté. L’enrobage possède une région interne de région d’épaisseur réduite en butée contre l’épaulement annulaire élevé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)