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1. (WO2015102657) FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE TRAITEMENT INFORMATIQUE INTÉGRÉS EN UTILISANT UN SUPPORT DE SUBSTRAT FAÇONNÉ POUR COÏNCIDER AVEC LE PROFIL SPATIAL D'UN PANACHE DE DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/102657    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/029196
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 14.03.2014
CIB :
G01N 21/00 (2006.01), G01N 21/17 (2006.01), G01N 21/84 (2006.01)
Déposants : HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC. [US/US]; 10200 Bellaire Blvd. Houston, Texas 77072 (US)
Inventeurs : PERKINS, David L.; (US).
FREESE, Robert Paul; (US).
JONES, Christopher Michael; (US).
GARDNER, Richard Neal; (US)
Mandataire : VACAR, Dan; Fish & Richardson P.C. P.O. Box 1022 Minneapolis, Minnesota 55440-1022 (US)
Données relatives à la priorité :
PCT/US2013/078496 31.12.2013 US
Titre (EN) FABRICATION OF INTEGRATED COMPUTATIONAL ELEMENTS USING SUBSTRATE SUPPORT SHAPED TO MATCH SPATIAL PROFILE OF DEPOSITION PLUME
(FR) FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE TRAITEMENT INFORMATIQUE INTÉGRÉS EN UTILISANT UN SUPPORT DE SUBSTRAT FAÇONNÉ POUR COÏNCIDER AVEC LE PROFIL SPATIAL D'UN PANACHE DE DÉPÔT
Abrégé : front page image
(EN)A system includes a computational system to receive a design of an integrated computational element (ICE) including specification of a substrate and a plurality of layers, their respective target thicknesses and complex indices, such that a notional ICE fabricated based on the ICE design is related to a characteristic of a sample. Additionally, the system includes a deposition chamber including a deposition source to provide a deposition plume having a plume spatial profile, and a support to support a plurality of instances of the substrate during fabrication of a plurality of instances of the ICE. The support is spaced apart from the deposition source and has a shape that corresponds to the plume spatial profile, such that when the supported instances of the substrate are distributed over the support, thicknesses of instances of each of the deposited layers are substantially uniform across the plurality of instances of the ICE.
(FR)L'invention concerne un système comprenant un système de traitement informatique destiné à recevoir un modèle d'un élément de traitement informatique intégré (ICE) incluant les spécifications d'un substrat et d'une pluralité de couches, leurs épaisseurs voulues respectives et leurs indices de complexité, de sorte qu'un ICE hypothétique fabriqué à partir du modèle d'ICE est associé à une caractéristique d'un échantillon. Le système comprend en outre une chambre de dépôt incluant une source de dépôt destinée à produire un panache de dépôt qui possède un profil spatial de panache, et un support destiné à supporter une pluralité d'instances du substrat pendant la fabrication d'une pluralité d'instances de l'ICE. Le support est espacé de la source de dépôt et possède une forme qui correspond au profil spatial du panache, de sorte que lorsque les instances supportées du substrat sont distribuées sur le support, les épaisseurs d'instances de chacune des couches déposées sont sensiblement homogènes parmi la pluralité d'instances de l'ICE.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)