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1. (WO2015102270) COMPOSITION DE FORMATION DE MOTIF CONDUCTEUR ET STRUCTURE DE RÉSINE COMPORTANT UN MOTIF CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/102270    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/012487
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 17.12.2014
CIB :
H01B 1/20 (2006.01), H01B 5/00 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336 (KR)
Inventeurs : JEONG, Han Nah; (KR).
PARK, Cheol-Hee; (KR).
JUNG, Sang Yun; (KR).
KIM, Jae Jin; (KR).
PARK, Chee-Sung; (KR).
KIM, Jae Hyun; (KR).
JUN, Shin Hee; (KR)
Mandataire : YOU ME PATENT AND LAW FIRM; 115 Teheran-ro Gangnam-gu Seoul 135-912 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2013-0167675 30.12.2013 KR
10-2014-0181437 16.12.2014 KR
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND RESIN STRUCTURE HAVING CONDUCTIVE PATTERN
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE MOTIF CONDUCTEUR ET STRUCTURE DE RÉSINE COMPORTANT UN MOTIF CONDUCTEUR
(KO) 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a composition for forming a conductive pattern, which allows a conductive micropattern to be formed on various polymer resin products or resin layers by a simplified process and can effectively satisfy a demand in the art, for example, for realizing various colors, and to a resin structure having a conductive pattern. The composition for forming a conductive pattern comprises: a polymer resin; and a non-conductive metallic compound of a three-dimensional NASICON structure having a predetermined chemical structure, the non-conductive metallic compound comprising a first metal and a second metal. The composition for forming a conductive may be a composition for forming a conductive pattern by irradiation of electromagnetic waves, in which a metallic core comprising the first metal or an ion thereof is formed from the non-conductive metallic compound by irradiation of electromagnetic waves.
(FR)La présente invention se rapporte à une composition de formation de motif conducteur qui permet la formation d'un micromotif conducteur sur divers produits de résine de polymère ou des couches de résine au moyen d'un procédé simplifié et peut satisfaire en fait une demande de la technique, par exemple, pour réaliser diverses couleurs, et à une structure de résine comportant un motif conducteur. La composition de formation de motif conducteur comprend : une résine polymère; et un composé métallique non conducteur d'une structure NASICON tridimensionnelle ayant une structure chimique prédéterminée, le composé métallique non conducteur comprenant un premier métal et un second métal. La composition de formation de motif conducteur peut être une composition destinée à former un motif conducteur par irradiation d'ondes électromagnétiques, un noyau métallique comprenant le premier métal ou son ion étant formé à partir du composé métallique non conducteur par irradiation d'ondes électromagnétiques.
(KO)본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있게 하며, 다양한 색상 구현 등의 당업계의 요구를 보다 효과적으로 충족할 수 있게 하는 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체에 관한 것이다. 상기 도전성 패턴 형성용 조성물은 고분자 수지; 및 제 1 금속 및 제 2 금속을 포함하고, 소정의 화학 구조를 갖는 나시콘(NASICON) 입체 구조의 비도전성 금속 화합물;을 포함하고, 전자기파 조사에 의해 상기 비도전성 금속 화합물로부터 상기 제 1 금속 또는 그 이온을 포함하는 금속핵이 형성되는, 전자기파 조사에 의한 도전성 패턴 형성용 조성물로 될 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)