WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015101537) ENSEMBLE CATHODE, CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE COMPRENANT UN CANON À ÉLECTRONS DE CE TYPE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101537    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/078993
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 22.12.2014
CIB :
H01J 3/02 (2006.01), H01J 37/063 (2006.01), H01J 1/28 (2006.01), H01J 1/46 (2006.01), H01J 37/07 (2006.01), H01J 37/075 (2006.01)
Déposants : MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. [NL/NL]; Computerlaan 15 NL-2628 XK Delft (NL)
Inventeurs : DINU-GÜRTLER, Laura; (NL).
HOGERVORST, Eric Petrus; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/921,546 30.12.2013 US
Titre (EN) CATHODE ARRANGEMENT, ELECTRON GUN, AND LITHOGRAPHY SYSTEM COMPRISING SUCH ELECTRON GUN
(FR) ENSEMBLE CATHODE, CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE COMPRENANT UN CANON À ÉLECTRONS DE CE TYPE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a cathode arrangement (20) comprising: a cathode body housing an emission surface (32) for emitting electrons in a longitudinal direction (Z), wherein the emission surface is bounded by an emission perimeter (35); a focusing electrode (40) at least partially enclosing the cathode body in a transversal direction and comprising an electron transmission aperture (44) for focusing the electrons emitted by the emission surface, wherein the aperture is bounded by an aperture perimeter (45), wherein the cathode body is moveably arranged within the focusing electrode over a maximum transversal distance (d1) from an aligned position (R0), and wherein the aperture perimeter transversally extends over the emission surface and beyond the emission perimeter over an overlap distance (d2) that exceeds the maximum transversal distance.
(FR)L'invention concerne un ensemble cathode (20) comprenant : - un corps de cathode logeant une surface d'émission (32) pour émettre des électrons dans une direction longitudinale (Z), la surface d'émission étant bornée par un périmètre d'émission (35); - une électrode de focalisation (40) entourant au moins partiellement le corps de cathode dans une direction transversale et comprenant une ouverture de transmission d'électrons (44) pour focaliser les électrons émis par la surface d'émission, l'ouverture étant bornée par un périmètre d'ouverture (45). Le corps de cathode est agencé mobile à l'intérieur de l'électrode de focalisation sur une distance transversale maximale (d1) depuis une position alignée (R0), et le périmètre d'ouverture s'étend transversalement sur la surface d'émission et au-delà du périmètre d'émission sur une distance de chevauchement (d2) qui excède la distance transversale maximale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)