WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015101458) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONCEPTION DE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101458    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/076542
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 04.12.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : CHEN, Guangqing; (US).
KENT, Eric, Richard; (US).
WANG, Jen-Shiang; (US).
ADAM, Omer, Abubaker, Omer; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/921,874 30.12.2013 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONCEPTION DE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Abrégé : front page image
(EN)A method of metrology target design is described. The method includes determining a sensitivity of a parameter for a metrology target design to an optical aberration, determining a difference between an impact on the parameter for the metrology target design and an impact on the parameter for a product design exposed using an optical system of a lithographic apparatus based on the product of the sensitivity and the aberration of the optical system. The method further includes determining a sensitivity of a parameter for a metrology target design to each aberration of a plurality of aberrations and determining an impact on the parameter for the metrology target design based on the sum of the sensitivities multiplied by the respective aberrations of the optical system. The parameter may be overlay error, critical dimension and focus. The aberration may be different across the exposure slit but the sensitivity is substantially independent of the slit position.
(FR)La présente invention concerne un procédé de conception de cible de métrologie. Le procédé consiste à déterminer une sensibilité de paramètre d'une conception de cible de métrologie à une aberration optique, à déterminer une différence entre un impact sur le paramètre de la conception de cible de métrologie et un impact sur le paramètre d'une conception de produit exposée au moyen d'un système optique d'un appareil lithographique basée sur le produit de la sensibilité et de l'aberration du système optique. Le procédé consiste en outre à déterminer une sensibilité d'un paramètre d'une conception de cible de métrologie à chaque aberration d'une pluralité d'aberrations et à déterminer un impact sur le paramètre de la conception de cible de métrologie basée sur la somme des sensibilités multipliée par les aberrations respectives du système optique. Le paramètre peut être une erreur de chevauchement, une dimension critique et une mise au point. L'aberration peut être différente d'un bout à l'autre de la fente d'exposition mais la sensibilité est sensiblement indépendante de la position de fente.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)