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1. (WO2015101364) SOLUTIONS DE POLYURÉTHANE-URÉE DESTINÉES À DES COMPOSITIONS DE VERNIS À ONGLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101364    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/077058
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 21.04.2015
CIB :
C08G 18/10 (2006.01), A61K 8/87 (2006.01), A61Q 3/02 (2006.01)
Déposants : COVESTRO DEUTSCHLAND AG [DE/DE]; Kaiser-Wilhelm-Allee 60 51373 Leverkusen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
COVESTRO POLYMERS (CHINA) CO., LTD. [CN/CN]; 82 Muhua Road Shanghai Chemical Industry Park Caojing Shanghai 201507 (CN) (CN only)
Inventeurs : VIALA, Sophie; (DE).
DOERR, Sebastian; (DE).
RODRIGUES, Paula Cristina Alves; (DE).
XIONG, Xiaohui; (CN)
Mandataire : PEKSUNG INTELLECTUAL PROPERTY LTD.; 908 Shining Tower 35 Xueyuan Road, Haidian District Beijing 100191 (CN)
Données relatives à la priorité :
14179782.9 05.08.2014 EP
Titre (EN) POLYURETHANE UREA SOLUTIONS FOR NAIL VARNISH COMPOSITIONS
(FR) SOLUTIONS DE POLYURÉTHANE-URÉE DESTINÉES À DES COMPOSITIONS DE VERNIS À ONGLES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a process for producing a nail varnish composition, characterized in that at least one polyurethane urea which has no ionically hydrophilizing groups and has been dissolved in a solvent or solvent mixture is used, the solvent consisting exclusively of one or more monohydroxy-functional alcohols or being a solvent mixture consisting of exclusively organic solvents and containing ≥ 50% by weight, based on the total mass of the solvent mixture, of at least one monohydroxy-functional alcohol. The present invention further relates to a nail varnish composition obtainable by the process according to the invention and to a process for producing a cosmetic coating on nails using the nail varnish compositions according to the invention.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'une composition de vernis à ongles, caractérisé en ce qu'au moins un polyuréthane-urée qui n'a pas de groupe hydrophilisant ionique et qui a été dissous dans un solvant ou un mélange de solvants est utilisé, le solvant étant constitué exclusivement d'un ou plusieurs alcools monohydroxy fonctionnels ou étant un mélange de solvants constitué exclusivement de solvants organiques et contenant ≥ 50% en poids, sur la base de la masse totale du mélange de solvants, d'au moins un alcool monohydroxy fonctionnel. La présente invention se rapporte en outre à une composition de vernis à ongles pouvant être obtenue par ledit procédé, ainsi qu'à un procédé destiné à produire un revêtement cosmétique sur les ongles en utilisant lesdites compositions de vernis à ongles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)