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1. (WO2015101194) DISPOSITIF DE SUPPORT D'OBJECTIF ET MACHINE DE PHOTOGRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101194    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/094749
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 24.12.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203 (CN)
Inventeurs : WANG, Qian; (CN)
Mandataire : SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335 (CN)
Données relatives à la priorité :
201310752319.5 31.12.2013 CN
Titre (EN) OBJECTIVE LENS SUPPORT DEVICE AND PHOTOETCHING MACHINE
(FR) DISPOSITIF DE SUPPORT D'OBJECTIF ET MACHINE DE PHOTOGRAVURE
(ZH) 物镜支撑装置及光刻机
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an objective lens support device and a photoetching machine (100). The objective lens support device is installed on the photoetching machine (100). The objective lens support device comprises a main support device (101) and an auxiliary support device (102). One end of the main support device (101) is connected to an objective lens flange (104), and the other end thereof is installed on a main substrate (107). One end of the auxiliary support device (102) is connected to an objective lens body (103), and the other end thereof is installed on an internal frame. By respectively arranging a main support device and an auxiliary support device at an objective lens flange and an objective lens body, entirely rotating the mode vibration shape around the horizontal direction (direction X or direction Y) by taking an installation surface of the objective lens flange as a centre can be eliminated, thereby increasing the mode frequency value of each order of vibration shape, shortening the displacement response differences among the top, the centre and the bottom of the objective lens, and improving the exposure accuracy.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de support d'objectif ainsi qu'une machine de photogravure (100). Le dispositif de support d'objectif est installé sur la machine de photogravure (100). Le dispositif de support d'objectif comprend un dispositif de support principal (101) ainsi qu'un dispositif de support auxiliaire (102). Une extrémité du dispositif de support principal (101) est connectée à une bride (104) d'objectif, et l'autre extrémité associée est installée sur un substrat principal (107). Une extrémité du dispositif de support auxiliaire (102) est connectée à un corps (103) d'objectif, et l'autre extrémité associée est installée sur un cadre interne. En plaçant respectivement un dispositif de support principal et un dispositif de support auxiliaire au niveau d'une bride d'objectif et d'un corps d'objectif, il est possible d'éliminer la rotation complète de la forme de mode de vibration autour de la direction horizontale (direction X ou direction Y) en utilisant comme centre une surface d'installation de la bride d'objectif, ce qui permet d'augmenter la valeur de fréquence de mode de chaque ordre de forme de vibration, de réduire les différences de réponse de déplacement en haut, au centre et en bas de l'objectif, et d'améliorer la précision d'exposition.
(ZH)公开了一种物镜支撑装置及光刻机(100),物镜支撑装置安装在光刻机(100)上。物镜支撑装置包括主支撑装置(101)和辅助支撑装置(102)。主支撑装置(101)的一端与物镜法兰(104)相连,另一端安装在主基板(107)上。辅助支撑装置(102)的一端与物镜主体(103)连接,另一端安装在内部框架上。通过在物镜法兰及物镜主体处分别设置主支撑装置和辅助支撑装置,可以消除以物镜法兰安装面为中心整体绕水平向(X向或Y向)转动模态振型,提高各阶振型的模态频率值,缩短物镜顶端、中心、底端间的位移响应差值,提高曝光精度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)